[發明專利]一種偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的裝置和方法有效
| 申請號: | 201710020644.0 | 申請日: | 2017-01-12 |
| 公開(公告)號: | CN108300978B | 公開(公告)日: | 2020-10-09 |
| 發明(設計)人: | 尹勇 | 申請(專利權)人: | 和艦科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人: | 劉小峰 |
| 地址: | 215123 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 偵測 沉積 機臺 清理 結束 時間 裝置 方法 | ||
依據本發明的一種偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的裝置,氣相沉積機臺包含通信連接的機臺主體和控制系統。偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的裝置包含電壓采集裝置,其中,電壓采集裝置分別與機臺主體和控制系統通信連接,并且電壓采集裝置定時采集機臺主體的電壓信號,并將電壓信號傳送至控制系統;控制系統處理電壓信號,并顯示電壓的變化趨勢。本發明能夠更精確地偵測到氣相沉積機臺的實際清理結束時間點,便于合理控制氣相沉積機臺的最佳清理時間。本發明同時公開一種偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的方法。
技術領域
本發明涉及檢測領域,特別涉及一種偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的裝置和方法。
背景技術
傳統氣相沉積機臺在進行外氣相沉積操作后通常會在沉積腔體以及沉積腔體的內部器件上殘留有大量的顆粒狀或薄膜狀殘渣,為了不影響下一次氣相沉積的工作效率,需要對這些殘渣進行清理?,F有技術中通常使用高壓N2進行吹掃清理,或者利用氟離子等能夠與殘渣發生反應的物質進行清理。然而,清理時間過短會導致沉積腔體無法清理干凈;而清理時間過長則容易損壞沉積腔體內部的其他器件,從而影響這些器件的使用壽命或直接影響機臺的氣相沉積效果。
清理結束時間點(clean end point)是指機臺本身判定清理結束所在的時刻,并且該清理結束時間點會根據清理方法、清理介質等實際清理條件的不同而發生變化。操作者通常會根據實際情況在該清理結束時間點的基礎上適當延長清理時間,以實現最佳的實際清理效果。然而,傳統氣相沉積機臺無法直接準確地確定機臺實際的清理結束時間點,每當機臺清理條件發生變化時,只能總結不同時間段的清理效果來估算清理結束時間點,最終得到的清理時間過于依賴操作者的經驗,并且不夠精確。
因此急需對現有設備進行改進,以更直觀、更準確地確定氣相沉積機臺的清理結束時間點。
發明內容
為了克服現有技術中所存在的缺陷,本發明基于氣相沉積機臺清理過程中電壓的變化規律提供一種偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的裝置,該裝置能夠使用方便、準確地偵測到氣相沉積機臺的清理結束時間點。并且本發明進一步提供一種偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的方法。
依據本發明的一種偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的裝置,氣相沉積機臺包含通信連接的機臺主體和控制系統,偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的裝置包含電壓采集裝置,其中,電壓采集裝置分別與機臺主體和控制系統通信連接,并且電壓采集裝置定時采集機臺主體的電壓信號,并將電壓信號傳送至控制系統;控制系統處理電壓信號,并顯示電壓的變化趨勢。
進一步地,電壓采集裝置每隔2s采集一次電壓信號。
依據本發明的一種偵測氣相沉積機臺清理結束時間點的方法,氣相沉積機臺包含機臺主體和控制系統,方法包含以下步驟:
步驟1:在氣相沉積機臺清理過程中使用電壓采集裝置定期采集機臺主體的電壓信號;
步驟2:電壓采集裝置將采集到的電壓信號傳送至控制系統;
步驟3:控制系統對電壓信號進行處理,確定并顯示清理結束時間點。
進一步地,步驟1包含電壓采集裝置每隔2s采集一次電壓信號。
進一步地,步驟3包含:
步驟3a:控制系統將電壓信號轉換為數字信號;
步驟3b:控制系統依據數字信號繪制并顯示電壓的變化曲線;
步驟3c:操作者依據電壓變化曲線確定電壓驟變點,并將電壓驟變點確定為清理結束時間點。
由于采用以上技術方案,本發明與現有技術相比(1)僅需在傳統機臺上加裝電壓采集裝置,無需大規模改造,操作簡單、成本低;(2)通過電壓采集裝置直接采集機臺在清理過程中的電壓信號,通過電壓驟變點來確定實際的清理結束時間點,從而能夠依據該清理結束時間點設定更合理的清理時間。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





