[發(fā)明專利]一種偵測(cè)氣相沉積機(jī)臺(tái)清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)的裝置和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710020644.0 | 申請(qǐng)日： | 2017-01-12 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN108300978B | 公開（公告）日： | 2020-10-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 尹勇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 和艦科技（蘇州）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C16/44 | 分類號(hào)： | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人： | 劉小峰 |
| 地址： | 215123 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 偵測(cè) 沉積 機(jī)臺(tái) 清理 結(jié)束 時(shí)間 裝置 方法 | ||
1.一種偵測(cè)氣相沉積機(jī)臺(tái)清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)的方法，所述氣相沉積機(jī)臺(tái)包含機(jī)臺(tái)主體和控制系統(tǒng)，所述機(jī)臺(tái)主體的電壓信號(hào)在清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)發(fā)生驟變，其特征在于，所述方法包含以下步驟：
步驟1：在所述氣相沉積機(jī)臺(tái)清理過程中使用電壓采集裝置定期采集所述機(jī)臺(tái)主體的電壓信號(hào)；
步驟2：所述電壓采集裝置將采集到的所述電壓信號(hào)傳送至所述控制系統(tǒng)；
步驟3：所述控制系統(tǒng)對(duì)所述電壓信號(hào)進(jìn)行處理，依據(jù)所述電壓的變化趨勢(shì)確定所述電壓信號(hào)的驟變的時(shí)間點(diǎn)以確定并顯示所述清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)，
在所述清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)的基礎(chǔ)上延長一定清理時(shí)間后結(jié)束清理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偵測(cè)氣相沉積機(jī)臺(tái)清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)的方法，其特征在于，所述步驟1中所述電壓采集裝置每隔2s采集一次所述電壓信號(hào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偵測(cè)氣相沉積機(jī)臺(tái)清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)的方法，其特征在于，所述步驟3包含：
步驟3a：所述控制系統(tǒng)將所述電壓信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)；
步驟3b：所述控制系統(tǒng)依據(jù)所述數(shù)字信號(hào)繪制并顯示所述電壓的變化曲線；
步驟3c：操作者依據(jù)所述電壓變化曲線確定電壓驟變點(diǎn)，并將所述電壓驟變點(diǎn)確定為所述清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)。
4.一種應(yīng)用權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的方法的偵測(cè)氣相沉積機(jī)臺(tái)清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)的裝置，所述氣相沉積機(jī)臺(tái)包含通信連接的機(jī)臺(tái)主體和控制系統(tǒng)，所述機(jī)臺(tái)主體的電壓信號(hào)在清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)發(fā)生驟變，其特征在于，所述偵測(cè)氣相沉積機(jī)臺(tái)清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)的裝置包含電壓采集裝置，其中，
所述電壓采集裝置分別與所述機(jī)臺(tái)主體和所述控制系統(tǒng)通信連接，并且所述電壓采集裝置定時(shí)采集所述機(jī)臺(tái)主體的電壓信號(hào)，并將所述電壓信號(hào)傳送至所述控制系統(tǒng)；
所述控制系統(tǒng)處理所述電壓信號(hào)，顯示所述電壓的變化趨勢(shì)，依據(jù)所述電壓的變化趨勢(shì)確定所述電壓信號(hào)的驟變的時(shí)間點(diǎn)以確定并顯示所述清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的偵測(cè)氣相沉積機(jī)臺(tái)清理結(jié)束時(shí)間點(diǎn)的裝置，其特征在于，所述電壓采集裝置每隔2s采集一次所述電壓信號(hào)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
