[發(fā)明專利]用于控制粉碎處理的方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680069847.2 | 申請日： | 2016-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN108367297B | 公開（公告）日： | 2020-11-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | J·卡爾蒂寧;A·蘭塔拉;A·雷米斯;V·索恩塔卡;J·莫伊拉寧;P·薩維朗塔 | 申請（專利權(quán)）人： | 奧圖泰(芬蘭)公司 |
| 主分類號： | B02C23/02 | 分類號： | B02C23/02;B02C25/00 |
| 代理公司： | 中國貿(mào)促會專利商標事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人： | 張豐豪 |
| 地址： | 芬蘭*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 控制 粉碎 處理 方法 裝置 | ||
1.一種用于控制粉碎處理的方法，所述方法包括以下步驟：
﹣利用成像系統(tǒng)(22、27)測量用于三維重建輸入礦石(9、21)的三維重建測量數(shù)據(jù)(33)；
﹣利用顆粒尺寸分析設(shè)備(28)測量用于計算輸出礦石(10、32)的顆粒尺寸特征值(38)的顆粒尺寸數(shù)據(jù)(34)；
﹣接收輸入礦石(9、21)的顆粒尺寸分布曲線(36)，所述輸入礦石(9、21)的顆粒尺寸分布曲線(36)由用于三維重建的所述三維重建測量數(shù)據(jù)(33)計算和/或重建；和
﹣接收所述輸出礦石(10、32)的顆粒尺寸特征值(38)，所述輸出礦石(10、32)的顆粒尺寸特征值(38)基于測量的所述顆粒尺寸數(shù)據(jù)(34)計算；
所述方法的特征在于：
所述粉碎處理具有研磨回路(8、20、31)；
在測量三維重建測量數(shù)據(jù)(33)的步驟中的輸入礦石為輸入到所述研磨回路(8、20、31)的輸入礦石；
在測量顆粒尺寸數(shù)據(jù)(34)的步驟中的輸出礦石為來自所述研磨回路(8、20、31)的輸出礦石；并且
所述方法還包括以下步驟：
﹣基于輸入礦石的所述顆粒尺寸分布曲線(36)和輸出礦石的所述顆粒尺寸特征值(38)計算礦石特征數(shù)據(jù)(41)，所述礦石特征數(shù)據(jù)(41)標識礦石硬度，所述礦石硬度在處于連續(xù)操作的整個研磨回路上計算；和
﹣基于計算出的所述礦石特征數(shù)據(jù)(41)在所述粉碎處理中控制所述研磨回路(8、20、31)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
﹣由用于三維重建的所述三維重建測量數(shù)據(jù)(33)重建輸入礦石的三維重建；和
﹣基于所述輸入礦石的三維重建來計算輸入礦石(9、21)的顆粒尺寸分布曲線(36)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述研磨回路(8、20、31)包括：
﹣串聯(lián)布置的至少兩組研磨機(11、13-15、17)，所述至少兩組研磨機(11、13-15、17)中的每一組均包括至少一個研磨機；和
﹣至少一個分類塊(12、16)，所述至少一個分類塊(12、16)中的每一個均包括至少一個分類分選器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述輸入礦石(9、21)由傳送機(18、30)傳送，并且所述成像系統(tǒng)(22、27)放置在所述傳送機(18、30)的附近。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
﹣接收用于控制所述粉碎處理的粉碎處理數(shù)據(jù)(40、49)，所述粉碎處理數(shù)據(jù)(40、49)包括以下數(shù)據(jù)中的一項或多項：礦石質(zhì)量進料量、密度、加水量、球添加量、卵石進料量、研磨機速度、研磨產(chǎn)品尺寸、研磨機功率消耗、研磨機扭矩、研磨機支承壓力和研磨機裝載量。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述粉碎處理還包括壓碎回路(19、29)，所述方法包括以下步驟：
﹣計算用于控制所述壓碎回路(19、29)和/或用于控制所述研磨回路(8、20、31)的控制值數(shù)據(jù)(43)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述粉碎處理還包括壓碎回路(19、29)，所述方法包括以下步驟：
﹣將控制信號(45、46、54)和/或數(shù)據(jù)信號發(fā)送到所述壓碎回路(19、29)和/或所述研磨回路(8、20、31)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于奧圖泰(芬蘭)公司，未經(jīng)奧圖泰(芬蘭)公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.17sss.com.cn/pat/books/201680069847.2/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
