[發明專利]制造經涂布的基底的方法、經涂布的基底及其用途、以及用于制造經涂布的基底的系統在審
| 申請號: | 201680052863.0 | 申請日: | 2016-07-13 |
| 公開(公告)號: | CN108367310A | 公開(公告)日: | 2018-08-03 |
| 發明(設計)人: | 馬蒂亞斯·科赫 | 申請(專利權)人: | HEC高端涂料有限公司 |
| 主分類號: | B05D1/00 | 分類號: | B05D1/00;C23C14/02;C23C16/50;C23C28/00;B05D3/00;B05D3/14;C23C14/58;C23C14/20;C23C14/16 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 王達佐;洪欣 |
| 地址: | 德國阿*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚硅氧烷層 金屬層 外涂層 基底 有機硅化合物 等離子加工 等離子聚合 非金屬基質 電暈處理 金屬基質 使用應用 應用 制造 等離子發生器 等離子生成器 塑料基質 應用金屬 應用系統 透明 基質 | ||
本發明涉及用于制造經涂布的非金屬基質,尤其是塑料基質的方法;所述方法包括使用應用系統來應用至少一層金屬層,使用至少一種有機硅化合物處理所得到的金屬層,尤其是使用等離子聚合進行處理,以形成聚硅氧烷層,對于所述聚硅氧烷層使用等離子發生器進行等離子加工和/或進行電暈處理,以及將外涂層、尤其是透明外涂層應用至經處理的聚硅氧烷層。本發明還涉及用于制造經涂布的金屬基質的方法;所述方法包括使用應用系統來應用至少一層金屬層,使用至少一種有機硅化合物處理金屬層,尤其是使用等離子聚合進行處理,以形成聚硅氧烷層,對于所述聚硅氧烷層使用等離子生成器進行等離子加工和/或進行電暈處理,并將外涂層、尤其是透明外涂層應用至經處理的聚硅氧烷層。另外,本發明涉及根據所公開的方法可獲得的或能夠獲得的非金屬基質,以及根據所公開的方法可獲得的或能夠獲得的金屬基質。最后本發明涉及用于應用金屬層的應用系統以及所公開的基質的用途。
本發明涉及制造經涂布的基底的方法、可以通過這些方法得到的經涂布的基底、以及這些經涂布的基底的用途。本發明也涉及用于制造經涂布的基底的系統。
經常使用金屬和非金屬組分進行涂布以產生光滑和/或光亮的表面。通常,其涉及多層涂層系統。除了希望得到具有高質量的吸引人的外觀的表面之外,具有此類涂布系統的發明也通常實現了顯著的腐蝕防護。通常,由于機械損傷,長期的腐蝕防護無作用。在很多情況下,即使是非常微小的損傷也會引起經涂布的表面的腐蝕。除了褪色之外,這也可以導致滲透現象。通常,這進而導致涂布區域的剝落。不缺乏目的在于使經涂布的光亮表面抵抗腐蝕的實驗。例如,DE 123765A1描述了在金屬表面上產生腐蝕防護層的方法,其中使用了基于硅化合物的溶膠、氨基烷基官能化的烷氧基硅烷或兩種前述組分的轉化產物。
根據DE 38 33 119 C2,通過直接在鉻化層上沉積、不進行中間干燥的電沉積涂布,得到了非常好地附著在基質上的腐蝕防護的鉻化金屬表面。
然而金屬基質的腐蝕防護涂層仍然表現出改善附著和腐蝕防護的巨大潛力,尤其是對于大量生產的產物,尤其是具有復雜幾何形狀的那些產物。
因此本發明基于以下目的:提供不再由于現有技術的缺陷而受損(并且尤其是針對大量生產)的經涂布的基底,提供具有改善的腐蝕防護和/或非常好的附著性質的經涂布的產物。本發明還意在提供在機械表面損傷(尤其是不與層的剝落有關的機械表面損傷)時不立即表現出滲透現象的此類經涂布的產物。本發明還基于以下目的:得到即使具有復雜的幾何形狀仍然在整個組件(包括沿著邊緣長度的區域)表現出均勻高質量的涂布結果的經涂布的基底。
因此,已經得到了用于制造經涂布的非金屬基質、尤其是經涂布的塑料基質的方法,所述方法包括:
a)提供非金屬基質,尤其是塑料基質,所述基質具有能夠在至少一部分區域被涂布的至少一個表面,
b)提供用于應用金屬層的應用系統,尤其是真空氣相沉積系統或濺射系統,
c)提供至少一個等離子發生器和/或至少一個電暈系統,尤其是在用于應用金屬層的應用系統(例如真空氣相沉積系統或濺射系統)中提供,或作為其組件,
d)適當時,對于非金屬基質,尤其是塑料基質,或者對于非金屬基質的可涂布表面,尤其是塑料基質的可涂布表面,使用等離子發生器進行等離子處理和/或進行電暈處理,
e)適當時,使用至少一種有機硅化合物處理步驟a)或d)獲得的非金屬基質,尤其是塑料基質,或者處理所述非金屬基質的可涂布表面,尤其是所述塑料基質的可涂布表面,尤其是通過等離子聚合的方式進行處理,由此形成聚硅氧烷層,
f)適當時,對于步驟e)的聚硅氧烷層使用等離子發生器進行等離子處理和/或進行電暈處理,
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