[發(fā)明專(zhuān)利]一種全印刷多功能透明薄膜及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611267258.3 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106739597B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鐘杰;黃福志;彭勇;庫(kù)治良;程一兵 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 武漢理工大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | B41M1/30 | 分類(lèi)號(hào): | B41M1/30;C09D11/03;C09D11/107;C09D11/102;C09D11/101 |
| 代理公司: | 湖北武漢永嘉專(zhuān)利代理有限公司 42102 | 代理人: | 崔友明;徐曉琴 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 印刷 多功能 透明 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種全印刷多功能透明薄膜的制備方法,其特征在于 ,包括如下步驟:
(1)選用膜層基底,清洗干凈,吹干,備用;
(2)印制過(guò)渡層:首先配制過(guò)渡層可印刷墨水;然后在常溫下將過(guò)渡層可印刷墨水噴涂在基板上,再對(duì)基板烘干,完成過(guò)渡層的制備;
(3)制備功能層:首先配制功能層可印刷墨水,然后將功能層可印刷墨水刮涂在過(guò)渡層之上,再對(duì)形成的功能層薄膜進(jìn)行加熱烘烤、還原和再加熱,完成功能層的制備;
(4)制備抗損層:配制抗損層可印刷墨水,將抗損層可印刷墨水刮涂在功能層之上,對(duì)形成的抗損層進(jìn)行加熱烘烤,完成抗損層的制備;
在膜層基底上依次完成過(guò)渡層、功能層、過(guò)渡層和抗損層的制備過(guò)程,所得薄膜即為全印刷多功能透明薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在涂覆抗損層之前,使用步驟(2)所述方法在功能層上制備一層過(guò)渡層,然后在過(guò)渡層之上制備抗損層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述基底為玻璃或有機(jī)聚合物,所述玻璃為石英玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、高硅氧玻璃、鈉鈣硅酸鹽玻璃、磷酸鹽玻璃、鉛硅酸鹽玻璃和硼硅酸鹽玻璃中的一種,所述有機(jī)聚合物為PET、PP、PE、PMMA、PC、PEN和PI中的一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述過(guò)渡層可印刷墨水為0.1wt%~15wt%的硅烷偶連劑醇溶液、0.1wt%~15wt%的甲苯-2,4-二異氰酸酯溶液、或0.1wt%~10wt%的乙氧基氟碳水溶液。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述功能層可印刷墨水的組分按體積百分比計(jì)為:氧化石墨烯水性溶液20%~60%、納米銀線溶液15%~70% 、分散溶劑3%~10%、樹(shù)脂混合劑0%~10%、偶連劑0~10%、其它組分1%~12%,所述其它組分為納米金屬氧化物、金屬氧化物的有機(jī)前驅(qū)體和金屬氧化物的無(wú)機(jī)前驅(qū)體鹽中的一種或幾種。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,所述金屬氧化物的有機(jī)前驅(qū)體和金屬氧化物的無(wú)機(jī)前驅(qū)體鹽選自四異丙醇鈦、鈦酸異丙酯、二(乙酰丙酮基)鈦酸二異丙酯、正硅酸乙酯、硅酸丙酯、氯化鋅、醋酸鋅和氯化錫中的一種或幾種;所述納米金屬氧化物為納米氧化鈦、納米氧化鋅、納米氧化鋯、納米氧化鉬、或納米氧化鎢。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述氧化石墨烯水性溶液的濃度為0.01~2g/mL;所述納米銀線溶液為納米銀線水性溶液或納米銀線異丙醇溶液,濃度為0.01~2g/mL;所述分散溶劑為去離子水、乙醇、異丙醇、丙酮、或N-甲基吡咯烷酮;所述樹(shù)脂混合劑為聚丙烯酸樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂和水性環(huán)氧樹(shù)脂中的一種或幾種;所述偶連劑為0.1wt%~15wt%的硅烷偶連劑醇溶液、0.1wt%~15wt%的甲苯-2,4-二異氰酸酯溶液、或0.1wt%~10wt%的乙氧基氟碳水溶液。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(3)所述刮涂的過(guò)程為:刮涂膜層厚度1μm~20μm,刮刀與過(guò)渡層間隙在5~100 μm,移動(dòng)速率5m/min~100m/min;所述加熱烘烤的溫度為40~200℃,時(shí)間為2min~200min;所述還原采用HI還原、肼蒸汽還原和硼氫化鈉還原中的一種或幾種方式結(jié)合,還原過(guò)程氛圍氣壓為1kPa~0.5MPa,溫度控制在50~300℃,還原時(shí)間為5min~2h;所述再加熱的溫度為200℃,時(shí)間為5min。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述過(guò)渡層的膜層厚度為1nm~2μm;所述功能層的膜層厚度為1μm~20μm;所述抗損層的膜層厚度為2nm~50μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述抗損層可印刷墨水為UV固化膠、熱固化膠、或壓固化膠;所述抗損層的制備過(guò)程為:刮涂膜層厚度2nm~50μm,刮刀移動(dòng)速率為15m/min~50m/min,形成膜層后在1000W紫外光照射下1分鐘完成固化或者采用適當(dāng)加熱加壓方式完成固化。
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