[發(fā)明專利]倒錐型大功率硅鍺光電探測器及提高入射光功率的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201611156831.3 | 申請日: | 2016-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN106784072B | 公開(公告)日: | 2019-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王磊;肖希;陳代高;李淼峰 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢郵電科學(xué)研究院 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/028;H01L31/105 |
| 代理公司: | 北京捷誠信通專利事務(wù)所(普通合伙) 11221 | 代理人: | 王衛(wèi)東 |
| 地址: | 430074 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 倒錐型 大功率 光電 探測器 提高 入射 功率 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種倒錐型大功率硅鍺光電探測器及提高入射光功率的方法,涉及光通信集成器件領(lǐng)域。該探測器包括入射波導(dǎo)、第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)、第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、鍺波導(dǎo)、本征區(qū),光從入射波導(dǎo)入射,所述第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)、第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、本征區(qū)組成有兩層臺階的單脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu),第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、本征區(qū)的橫截面圍成梯形,在梯形與入射波導(dǎo)連接處,梯形寬度與入射波導(dǎo)寬度相等,梯形沿著光傳播方向?qū)挾扔蓪捵冋?;鍺波導(dǎo)的橫截面為梯形,寬度沿著光傳播方向由窄變寬;本征區(qū)的橫截面為梯形,寬度沿著光傳播方向由寬變窄。本發(fā)明能夠有效提高硅鍺光電探測器的入射光功率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光通信集成器件領(lǐng)域,具體是涉及一種倒錐型大功率硅鍺光電探測器及提高入射光功率的方法。
背景技術(shù)
硅鍺光電探測器制作在SOI(Silicon-On-Insulator,絕緣襯底上的硅)晶圓上,具有與硅基光電子工藝兼容、集成度高的優(yōu)點(diǎn)。目前,傳統(tǒng)硅鍺光電探測器主要用于探測功率低于5dBm的光,當(dāng)光功率高于5dBm時,器件出現(xiàn)飽和甚至燒毀的現(xiàn)象。對于微波光子學(xué)應(yīng)用,需要探測的光功率大于5dBm,從而提高光-微波轉(zhuǎn)換效率,減少對微波放大器的需求,降低成本,因此有必要研究一種高功率的硅鍺光電探測器。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了克服上述背景技術(shù)的不足,提供一種倒錐型大功率硅鍺光電探測器及提高入射光功率的方法,能夠有效提高硅鍺光電探測器的入射光功率。
本發(fā)明提供一種倒錐型大功率硅鍺光電探測器,制作在SOI晶圓上,該探測器包括入射波導(dǎo)、第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)、第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、鍺波導(dǎo)、本征區(qū),光從入射波導(dǎo)入射,所述第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)、第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、本征區(qū)組成有兩層臺階的單脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu),第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、本征區(qū)的橫截面圍成梯形,在梯形與入射波導(dǎo)連接處,梯形寬度與入射波導(dǎo)寬度相等,梯形沿著光傳播方向?qū)挾扔蓪捵冋?;鍺波導(dǎo)的橫截面為梯形,寬度沿著光傳播方向由窄變寬;本征區(qū)的橫截面為梯形,寬度沿著光傳播方向由寬變窄。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所述第一輕摻雜區(qū)和第二輕摻雜區(qū)之間有本征區(qū),第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、本征區(qū)均在鍺波導(dǎo)下方,且均與鍺波導(dǎo)接觸,第一重?fù)诫s區(qū)與第一輕摻雜區(qū)接觸,第二重?fù)诫s區(qū)與第二輕摻雜區(qū)接觸。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所述入射波導(dǎo)的縱截面為有兩層臺階的單脊波導(dǎo)結(jié)構(gòu),其中,下層臺階的高度為h1,上層臺階的高度為h2。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所述第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)的高度為h1。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所述第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、本征區(qū)的高度為h1+h2。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所述入射波導(dǎo)、第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)、第一輕摻雜區(qū)、第二輕摻雜區(qū)、本征區(qū)的材料均為硅。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所述第一重?fù)诫s區(qū)的摻雜類型與第二重?fù)诫s區(qū)的摻雜類型相反;第一輕摻雜區(qū)的摻雜類型與第一重?fù)诫s區(qū)摻雜類型相同;第二輕摻雜區(qū)的摻雜類型與第二重?fù)诫s區(qū)的摻雜類型相同。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所述第一輕摻雜區(qū)的摻雜濃度d5比第一重?fù)诫s區(qū)的摻雜濃度d3低,10<d3/d5<103。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所述第二輕摻雜區(qū)的摻雜濃度d6比第二重?fù)诫s區(qū)的摻雜濃度d4低,10<d4/d6<103。
本發(fā)明還提供一種應(yīng)用于上述倒錐型大功率硅鍺光電探測器的提高入射光功率的方法,包括以下步驟:
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





