[發(fā)明專利]沉積裝置及沉積方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610959641.9 | 申請日： | 2016-10-27 |
| 公開（公告）號： | CN107012446B | 公開（公告）日： | 2019-09-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 樸鍾秀;許秉舜;河度均;李振宇;卞仁宰;林寬洙 | 申請（專利權(quán)）人： | 燦美工程股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455;C23C16/48 |
| 代理公司： | 北京青松知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 鄭青松 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 沉積 裝置 方法 | ||
1.一種沉積裝置，其特征在于，包括：
支撐部，在上面可安裝處理物；
腔室部，位于所述支撐部上，并且在下面形成處理孔，在所述處理孔與所述處理物之間提供處理空間；
源噴射孔，形成在所述處理孔的內(nèi)周面；
源供應(yīng)部，連接于所述源噴射孔以供應(yīng)源；
激光部，向所述處理空間可照射加工激光；及
加熱部，為了提高所述加工激光照射區(qū)域的周圍溫度，加熱所述加工激光照射區(qū)域，且
所述加熱部包括：激光單元，將加熱激光可照射于所述加工激光照射區(qū)域周圍，并且照射面積比所述加工激光的照射面積大；或者所述加熱部包括：加熱燈，使光可照射于所述加工激光照射區(qū)域周圍，并且照射面積比所述加工激光的照射面積大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，其特征在于，
所述源噴射孔形成在所述處理孔內(nèi)周面的三個位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，
所述處理孔為，在下部形成以高度方向的內(nèi)徑相同的直動部，
所述源噴射孔形成在所述直動部。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，
在所述處理孔的下側(cè)端部隔離所述源噴射孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，
在所述處理孔的下側(cè)端部隔離所述源噴射孔0.5㎜至2㎜。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，
所述源噴射孔為，向所述處理孔的下側(cè)端部的中心部傾斜形成，并且旋轉(zhuǎn)對稱于所述處理孔的下側(cè)端部的中心部。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，
所述源噴射孔傾斜形成，對于以高度方向交叉所述處理孔的下側(cè)端部的中心軸構(gòu)成60°至70°。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，
在所述處理孔的下側(cè)端部的內(nèi)徑為1時，所述源噴射孔的內(nèi)徑為0.1至0.6。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，
所述源噴射孔的內(nèi)徑為0.5㎜至3㎜。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，其特征在于，
在所述腔室部與所述激光部之間設(shè)置光學(xué)部，
所述激光單元包括：激光發(fā)生器，生成連續(xù)波激光；及第一反射鏡，將所述連續(xù)波激光引導(dǎo)至所述光學(xué)部。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的沉積裝置，其特征在于，
所述激光部包括：激光振蕩器，生成所述加工激光；第二反射鏡，將所述加工激光引導(dǎo)至所述光學(xué)部；及間隙，配置在所述第二反射鏡與所述光學(xué)部之間，并且以調(diào)節(jié)所述加工激光的照射面積。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，其特征在于，
對所述支撐部可相對移動地設(shè)置所述激光部，
所述激光單元對所述支撐部可相對移動，同時可與所述激光部一同移動。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，其特征在于，
所述加熱燈與所述激光部一同被可移動地進行設(shè)置。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，其特征在于，
所述源供應(yīng)部包括：源供應(yīng)管，一側(cè)貫通所述腔室部的內(nèi)部，并且連接于所述源噴射孔；及源供給器，連接于所述源供應(yīng)管的另一側(cè)；
所述源供應(yīng)管包括：多個直管部；連接部，至少具有一個，并且連接所述多個直管部之間；
所述連接部形成彎曲管結(jié)構(gòu)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的沉積裝置，其特征在于，包括：
加熱部，圍繞所述源供應(yīng)管的至少一部分，
所述源供應(yīng)管的材質(zhì)包括銅。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
