1.一種用于擦拭濺射靶材的轉盤，其特征在于，包括：

相對設置的底盤和托盤，所述底盤的盤面和所述托盤的盤面相對，所述托盤和所述底盤可轉動連接，使所述托盤能夠在所述底盤上方自轉；

所述托盤的頂面為平面；

彈性墊，用于設置在所述托盤的頂面；

第一凈化布，用于設置在所述彈性墊的上表面。

2.如權利要求1所述的用于擦拭濺射靶材的轉盤，其特征在于，還包括軸承，所述軸承包括同心的內圈和外圈，所述內圈與外圈能夠相對轉動；

所述軸承設于所述底盤和托盤之間，所述底盤和所述托盤其中之一與所述內圈固定連接，另一與所述外圈固定連接以實現(xiàn)所述可轉動連接。

3.如權利要求1所述的用于擦拭濺射靶材的轉盤，其特征在于，所述底盤具有凸起，所述托盤具有凹槽，所述凸起能夠插入所述凹槽中，使得所述托盤能夠以所述凹槽為中心進行旋轉；或，

所述底盤具有凹槽，所述托盤具有凸起，所述凸起能夠插入所述凹槽中，使得所述托盤能夠以所述凸起為中心進行旋轉。

4.如權利要求1所述的用于擦拭濺射靶材的轉盤，其特征在于，所述托盤為圓盤，所述托盤圍繞其圓心進行自轉。

5.如權利要求1所述的用于擦拭濺射靶材的轉盤，其特征在于，所述托盤的材料為鋁合金材料。

6.如權利要求1所述的用于擦拭濺射靶材的轉盤，其特征在于，所述彈性墊的頂面和底面均為平面，所述彈性墊的厚度在10mm—15mm之間。

7.如權利要求1所述的用于擦拭濺射靶材的轉盤，其特征在于，所述第一凈化布的材料為聚酯纖維。

8.一種使用權利要求1至7任一項所述的轉盤擦拭濺射靶材的方法，其特征在于，包括：

將所述彈性墊設置在所述托盤的頂面，將所述第一凈化布設置在所述彈 性墊的上表面；

將需要擦拭的濺射靶材放置在所述第一凈化布上，并使濺射靶材的中心對準所述托盤的自轉中心，所述濺射靶材的頂面為需要擦拭的面；

旋轉所述托盤帶動濺射靶材進行旋轉，并用第二凈化布與所述濺射靶材的頂面相貼，利用第二凈化布與濺射靶材的相對轉動擦拭所述濺射靶材的頂面；

控制所述第二凈化布，使所述第二凈化布在所述濺射靶材的旋轉中心位置和邊緣位置之間移動。

9.如權利要求8所述的擦拭濺射靶材的方法，其特征在于，所述第二凈化布的材料為聚酯纖維。

10.如權利要求8所述的擦拭濺射靶材的方法，其特征在于，旋轉所述托盤的角速度在20r/min—40r/min之間。

11.如權利要求8所述的擦拭濺射靶材的方法，其特征在于，所述第二凈化布與所述濺射靶材的頂面之間的貼合壓力在0.3N—1.0N之間。