[實用新型]一種金屬掩膜板有效
| 申請號: | 201521092001.X | 申請日: | 2015-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN205301807U | 公開(公告)日: | 2016-06-08 |
| 發明(設計)人: | 楊樂;劉挺;岳玲;周宏偉;徐西昌 | 申請(專利權)人: | 西安龍騰新能源科技發展有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/38 | 分類號: | G03F1/38 |
| 代理公司: | 西安新思維專利商標事務所有限公司 61114 | 代理人: | 李罡 |
| 地址: | 710021 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金屬 掩膜板 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種金屬掩膜板。
背景技術
目前,部分舊型號封裝設備不能正確識別普通MOSFET極性設計,導致封裝機器無法正確引線線和封裝MOSFET.相比改造封裝設備工藝復雜,工藝復雜.成本高。
實用新型內容
有鑒于此,本實用新型的主要目的在于提供一種金屬掩膜板
為達到上述目的,本實用新型的技術方案是這樣實現的:
本實用新型實施例提供一種金屬掩膜板,該金屬掩膜板的柵源圖形識別標志區域設置有用于識別GATE極性和SOURCE極性的圖形。
上述方案中,所述圖形為矩形或者圓形。
上述方案中,所述圖形位于柵源圖形識別標志區域的三個端點
與現有技術相比,本實用新型的有益效果:
本實用新型在不改造老舊封裝設備的基礎上,修改產品的金屬掩膜板的圖形,提高芯片表面不同極性之間的辨識度,使老舊設備能正確識別極性,完成封裝目的。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例提供一種金屬掩膜板的結構示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
本實用新型實施例提供一種金屬掩膜板,如圖1所示,該金屬掩膜板的柵源圖形識別標志區域設置有用于識別GATE極性和SOURCE極性的圖形。
所述柵源圖形識別標志區域位于金屬掩膜板的左上角。
所述圖形為矩形或者圓形。
所述圖形位于柵源圖形識別標志區域的三個端點。
通過金屬掩膜板上的圖形使舊型號封裝機臺能夠識別,具體的,舊機器通過表面的反光度來識別,現有技術中的金屬掩膜板沒有圖形僅有線條,所以沒大很大的區別,這樣舊機器不能識別反光度,然而通過本實用新型的圖形這塊區域反光度不一樣了,舊機器就能識別該圖形區域就是界限,進而識別GATE極性和SOURCE極性。
以上所述,僅為本實用新型的較佳實施例而已,并非用于限定本實用新型的保護范圍。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





