1.一種離子源維護裝置，其特征在于，基于真空腔體進行鍍膜操作后的維護，所述離子源維護裝置包括：

無縫真空管，具有兩開口端，且一所述開口端通過真空法蘭與所述真空腔體貫通連接；

真空波紋管，可伸縮地插接于所述無縫真空管的另一所述開口端；

離子源隔離保護套，所述離子源隔離保護套內設置有離子源，且該離子源隔離保護套設置于所述真空波紋管內部，通過所述真空波紋管的伸縮帶動所述離子源隔離保護套以及內部的離子源移至所述真空腔體以進行所述鍍膜操作，或帶動所述離子源隔離保護套以及內部的離子源移出所述真空腔體以進行所述維護操作；并且

所述真空法蘭上設置有插板閥，用于在所述維護操作時將所述離子源隔離保護套與所述真空腔體隔離。

2.如權利要求1所述的離子源維護裝置，其特征在于，所述離子源隔離保護套中的離子源為射頻離子源或直流離子源。

3.如權利要求1所述的離子源維護裝置，其特征在于，所述離子源隔離保護套包括：

屏蔽層，包裹于所述離子源的外表面，以屏蔽所述離子源產生的電磁效應；

絕緣層，包裹于所述屏蔽層的外表面，以將所述屏蔽層與所述真空波紋管隔離。

4.如權利要求1所述的離子源維護裝置，其特征在于，所述離子源維護裝置還包括：

推拉裝置，固定設置于所述真空波紋管外部且與所述無縫真空管的另一所述開口端連接，通過調節所述推拉裝置來控制所述真空波紋管的伸縮度，從而帶動所述離子源隔離保護套以及內部的離子源移至所述真空腔體中或從所述真空腔體中移出。

5.如權利要求4所述的離子源維護裝置，其特征在于，所述推拉裝置為既能固定支撐又能推拉的螺絲桿、彈性可伸縮結構或記憶合金，以支撐所述真空波紋管并控制所述真空波紋管的伸縮程度，并且

所述推拉裝置上設置有刻度，用以標記所述真空波紋管的伸縮程度。

6.如權利要求1所述的離子源維護裝置，其特征在于，所述無縫真空管上設置有一真空接口，以用于抽真空或填充保護氣體。