[實用新型]多晶硅還原爐有效
| 申請號： | 201520176681.7 | 申請日： | 2015-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN204529320U | 公開（公告）日： | 2015-08-05 |
| 發明（設計）人： | 姚心;汪紹芬;鄭紅梅 | 申請（專利權）人： | 中國恩菲工程技術有限公司 |
| 主分類號： | C01B33/021 | 分類號： | C01B33/021 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 100038*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 多晶 還原 | ||
1.一種多晶硅還原爐，其特征在于，包括：
底盤本體，所述底盤本體內限定有冷卻腔，所述底盤本體上設有與多個所述冷卻腔連通的冷卻液進管和多個冷卻液出管；
多個進氣管和多個排氣管，多個所述進氣管和多個所述排氣管設置在所述底盤本體上，多個所述進氣管中的一個嵌套在所述冷卻液進管內，多個所述排氣管分別嵌套在多個所述冷卻液出管內；
進氣環管和多個進氣支管，所述進氣環管上設有進氣口且設置在所述底盤本體下方，多個所述進氣支管連接在所述進氣環管上且分別與多個所述進氣管連通；
排氣環管和多個排氣支管，所述排氣環管上設有排氣口且設置在所述底盤本體下方，多個所述排氣支管連接在所述排氣環管上且分別與多個所述排氣管連通；
進液管和多個出液管，所述進液管連接在所述冷卻液進管下方且多個所述進氣支管中的一個嵌套在所述進液管內，多個所述出液管分別連接在多個所述冷卻液出管下方且多個所述排氣支管分別嵌套在多個所述出液管內。
2.根據權利要求1所述的多晶硅還原爐，其特征在于，所述冷卻液進管設置在所述底盤本體的中心處，多個所述冷卻液出管設在所述底盤本體的外周緣處。
3.根據權利要求2所述的多晶硅還原爐，其特征在于，多個所述進氣管中位于所述底盤本體中心處的所述進氣管嵌套在所述冷卻液進管內。
4.根據權利要求3所述的多晶硅還原爐，其特征在于，位于所述底盤本體中心處的所述進氣支管嵌套在所述進液管內。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的多晶硅還原爐，其特征在于，嵌套在一起的所述進氣支管和所述進液管之間設有膨脹節。
6.根據權利要求1-4中任一項所述的多晶硅還原爐，其特征在于，嵌套在一起的所述排氣支管和所述出液管之間設有膨脹節。
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