1.?利用真空降膜蒸發法濃縮氟硅酸的方法，其特征是：該方法的步驟如下：

（1）?原料氟硅酸從降膜蒸發器頂部進料，經上層的液體分布器，在降膜蒸發器內成膜狀流下；所述原料氟硅酸質量百分比濃度為8~20%；原料氟硅酸進入降膜蒸發器的流量在300~2000ml/min；同時控制真空度在-0.06?~?-0.09?MPa；

（2）?降膜蒸發器夾套內通入傳熱介質，對蒸發器內的料液進行加熱；傳熱介質溫度為40~80℃，濃縮蒸發時間40~100min；

（3）在降膜蒸發器下部的閃蒸室內水蒸汽和濃縮液進行分離，水蒸汽引出降膜蒸發器，進入冷凝器進行冷卻回收，濃縮液由降膜蒸發器底部流出進入儲罐，獲得產品。

2.根據權利要求1所述的利用真空降膜蒸發法濃縮氟硅酸的方法，其特征是：所述產品為濃度在20~60%的氟硅酸濃縮液。

3.根據權利要求1-2所述的利用真空降膜蒸發法濃縮氟硅酸的方法，其特征是：所用的降膜蒸發器為立式垂直管式降膜蒸發器，管長為1~5米。

4.根據權利要求1-2所述的利用真空降膜蒸發法濃縮氟硅酸的方法，其特征是：所用的降膜蒸發器包括頂蓋和換熱管，頂蓋通過支架支承于換熱管管壁上，頂蓋的中部設置有內管，內管的上端固定在頂蓋上，該內管下端豎直向下伸入換熱管孔內，該內管在換熱管的軸心線上，內管上端四周均勻設置有孔洞，在換熱管管壁上還設置有溢流槽；內管上端的孔洞的橫截面形狀為圓形或方形。