[發(fā)明專利]適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410054285.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-02-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103834916A | 公開(公告)日: | 2014-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭軍;成步文;王啟明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類號(hào): | C23C14/06 | 分類號(hào): | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 100083 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 適用 led 光源 摻鉺光 放大器 材料 制備 方法 | ||
1.一種適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法,包括如下步驟:
步驟1:取SrmBanSixOy:Er3+/RE;
步驟2:將SrmBanSixOy:Er3+/RE壓制成靶材;
步驟3:采用濺射的方法,濺射靶材;
步驟4:靶材上濺射出的粒子,在基片上沉積,形成SrmBanSixOy:Er3+/RE的薄膜,完成制備。
2.一種適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法,包括如下步驟:
步驟1:取SrmBanSixOy:RE;
步驟2:取Er2O3;
步驟3:將SrmBanSixOy:RE:RE和Er2O3分別壓制成靶材;
步驟4:采用濺射的方法,同時(shí)濺射兩種靶材;
步驟5:靶材上濺射出的粒子,在基片上沉積,形成SrmBanSixOy:Er3+/RE的薄膜,完成制備。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法,其中所述的SrmBanSixOy:Er3+/RE中,Er的原子百分?jǐn)?shù)為0.001at.%至10at.%,RE的總原子百分?jǐn)?shù)為0.001at.%至10at.%。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法,其中所述SrmBanSixOy:Er3+/RE中,Er和RE的摩爾比為0.01至100。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法,其中所述SrmBanSixOy:Er3+/RE,RE為Ce、Pr、Eu、Tb、Tm或Yb,或及其組合,其中m的數(shù)值為0-2,n的數(shù)值為0-2。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法,其中所述SrmBanSixOy:Er3+/RE中,m和n的和為0-2。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法,其中所述的SrmBanSixOy:Er3+/RE中,x的數(shù)值為0-3,y的數(shù)值為0-7。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的適用LED光源泵浦的摻鉺光放大器材料的制備方法,其中所述的SrmBanSixOy:RE,RE的總原子百分?jǐn)?shù)為0.001at.%至10at.%,RE為Ce、Pr、Eu、Tb、Tm或Yb,或及其組合,m的數(shù)值為0-2,n的數(shù)值為0-2,m和n的和為0-2,x的數(shù)值為0-3,y的數(shù)值為0-7。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





