1.一種光刻設(shè)備，包括：

支撐臺；和

包括傳感器部分和參考部分的測量系統(tǒng)，所述測量系統(tǒng)被配置為通過使用所述傳感器部分與所述參考部分相互作用來確定所述支撐臺相對于參考框架的位置和/或方向、或所述支撐臺上安裝的部件相對于參考框架的位置和/或方向，其中：

所述參考框架包括N個(gè)子框架，所述N個(gè)子框架耦接在一起以便針對低于第一參考頻率的振動(dòng)主要表現(xiàn)為單個(gè)剛性體，并且針對高于第二參考頻率的振動(dòng)主要表現(xiàn)為N體系統(tǒng)，其中N是大于1的整數(shù)，且

所述光刻設(shè)備還包括用于提供在所述N個(gè)子框架之間的耦接的耦接系統(tǒng)，其中所述耦接系統(tǒng)是主動(dòng)式的耦接系統(tǒng)，在所述耦接系統(tǒng)中，參考框架的狀態(tài)被測量來控制阻尼力的大小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中：在不同子框架之間的力、相對加速度和/或相對速度被測量作為所述參考框架的狀態(tài)來控制阻尼力的大小。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中：

1)所述傳感器部分被固定地安裝于所述支撐臺或所述支撐臺上安裝的部件上，并且所述參考部分被固定地安裝于所述參考框架或與所述參考框架為整體；或者

2)所述參考部分被固定地安裝于所述支撐臺或所述支撐臺上安裝的部件上、或與所述支撐臺或所述支撐臺上安裝的部件為整體，并且所述傳感器部分被固定地安裝于所述參考框架。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光刻設(shè)備，其中：

所述第一參考頻率在15-60Hz的范圍內(nèi)，并且等于或低于所述第二參考頻率。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光刻設(shè)備，其中：

所述第二參考頻率在15-60Hz的范圍內(nèi)，并且等于或高于所述第一參考頻率。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光刻設(shè)備，其中，所述第二參考頻率低于在所述參考框架被配置為在所有頻率下表現(xiàn)為單個(gè)剛性體的情況下將與所述參考框架相關(guān)聯(lián)的最低內(nèi)部本征頻率。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光刻設(shè)備，還包括：

用于提供圖案化的輻射束的圖案形成裝置；

被配置為將圖案化的輻射束投影到襯底上的投影系統(tǒng)，其中：

所述支撐臺被配置為支撐以下中的一個(gè)：所述襯底；所述圖案形成裝置；所述投影系統(tǒng)的光學(xué)元件。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光刻設(shè)備，其中，所述第一參考頻率高于所述光刻設(shè)備掃描用于所述襯底的所述支撐臺能夠采用的最大頻率。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光刻設(shè)備，被配置為通過將1)對所述支撐臺相對于所述參考框架的位置和/或方向的確定或?qū)λ鲋闻_上安裝的部件相對于所述參考框架的位置和/或方向的確定與2)對所述光刻設(shè)備的另外的部件相對于同一參考框架的位置和/或方向的確定進(jìn)行組合，來確定所述支撐臺相對于所述另外的部件的位置和/或方向、或者所述支撐臺上安裝的部件相對于所述另外的部件的位置和/或方向。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述耦接系統(tǒng)包括：力傳感器，用于測量在所述N個(gè)子框架中的兩個(gè)子框架之間的相對力；以及控制器，被配置為基于所述力傳感器的輸出來調(diào)節(jié)在所述兩個(gè)子框架之間的耦接。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述耦接系統(tǒng)包括用于測量所述N個(gè)子框架中的兩個(gè)子框架之間的相對運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)傳感器，以及被配置為基于來自所述運(yùn)動(dòng)傳感器的輸出來調(diào)節(jié)在所述兩個(gè)子框架之間的耦接的控制器。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中，所述耦接系統(tǒng)包括被配置為提供彈性恢復(fù)力的彈力構(gòu)件和被配置為耗散能量的阻尼構(gòu)件。