1.一種用于控制光學組件與器件之間間隙中的環境的環境系統，該器件由器件載物臺保持，該環境系統包括：

位于器件附近的流體屏障；以及

沉浸流體系統，其輸送充滿間隙的沉浸流體，并且收集直接位于流體屏障與器件和器件載物臺中至少一個之間的沉浸流體。

2.根據權利要求1的環境系統，其中流體屏障環繞間隙并且抑制包括流體蒸汽的沉浸流體離開間隙附近的區域。

3.根據權利要求1的環境系統，其中流體屏障包括位于器件附近的清除入口，并且其中沉浸流體系統包括與清除入口流體連通的低壓源。

4.根據權利要求3的環境系統，還包括在流體屏障與器件和器件臺中至少一個之間引導軸承流體以相對于器件和器件臺中至少一個支撐流體屏障的軸承流體源。

5.根據權利要求4的環境系統，其中流體屏障包括位于器件附近的軸承出口，軸承出口與軸承流體源流體連通，并且其中清除入口比軸承出口更接近間隙。

6.根據權利要求4的環境系統，其中流體屏障包括位于器件附近的軸承出口，軸承出口與軸承流體源流體連通，并且其中清除入口比軸承出口更遠離間隙。

7.根據權利要求1的環境系統，還包括在流體屏障與器件和器件臺中至少一個之間引導軸承流體以相對于器件和器件臺中至少一個支撐流體屏障的軸承流體源。

8.根據權利要求7的環境系統，其中流體屏障包括位于器件附近的一對彼此分隔的清除入口以及軸承出口，其中沉浸流體系統包括與清除入口流體連通的低壓源，并且其中軸承流體源與軸承出口流體連通。

9.根據權利要求8的環境系統，其中軸承出口位于清除入口之間。

10.根據權利要求7的環境系統，其中該對清除入口位置比軸承出口更接近間隙。

11.根據權利要求1的環境系統，還包括使得間隙中的壓力近似等于流體屏障外部壓力的均壓器。

12.根據權利要求11的環境系統，其中均壓器是延伸通過流體屏障的通道。

13.一種用于將圖像傳送到器件的曝光裝置，該曝光裝置包括：光學組件，保持器件的器件載物臺，以及根據權利要求1的、控制光學組件與器件之間間隙中環境的環境系統。

14.根據權利要求13的曝光裝置，其中器件載物臺包括與器件的器件暴露表面近似處于相同平面中的載物臺表面。

15.一種制造器件的過程，包括提供襯底并且使用根據權利要求13的曝光裝置將圖像傳送到襯底的步驟。

16.一種用于控制光學組件與器件之間間隙中環境的環境系統，該器件由器件載物臺保持，該環境系統包括：

位于器件附近的流體屏障；

輸送充滿間隙的沉浸流體的沉浸流體系統；以及

在流體屏障與器件和器件臺中至少一個之間引導軸承流體以相對于器件和器件載物臺中至少一個支撐流體屏障的軸承流體源。

17.根據權利要求16的環境系統，其中流體屏障環繞間隙并且抑制包括任何流體蒸汽的沉浸流體離開間隙附近的區域。

18.根據權利要求16的環境系統，其中沉浸流體系統收集直接位于流體屏障與器件和器件載物臺中至少一個之間的沉浸流體。

19.根據權利要求18的環境系統，其中流體屏障包括位于器件附近的清除入口，并且其中沉浸流體系統包括與清除入口流體連通的低壓源。

20.根據權利要求16的環境系統，其中沉浸流體與軸承流體具有不同的成分。

21.根據權利要求16的環境系統，其中沉浸流體與軸承流體具有近似相同的成分。

22.根據權利要求16的環境系統，其中流體屏障包括位于器件附近的軸承出口，軸承出口與軸承流體源流體連通。

23.根據權利要求16的環境系統，還包括使得間隙中的壓力近似等于流體屏障外部壓力的均壓器。

24.根據權利要求23的環境系統，其中均壓器是延伸通過流體屏障的通道。