[發(fā)明專利]使用整個原始圖像進行缺陷檢測的系統(tǒng)和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201280028222.3 | 申請日: | 2012-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN103765200A | 公開(公告)日: | 2014-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 尼古拉·默克契 | 申請(專利權(quán))人: | 光子動力公司 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956;G01B11/30;G06T7/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 曹瑾 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 使用 整個 原始 圖像 進行 缺陷 檢測 系統(tǒng) 方法 | ||
相關(guān)應(yīng)用的相互對照
本申請涉及并公開了提交于2011年6月7日的美國第13/155,186號專利申請的優(yōu)先權(quán)。
對于美國的指定,本申請是上述美國第13/155,186號專利申請的續(xù)本。
發(fā)明背景
發(fā)明領(lǐng)域
本發(fā)明總體涉及電子器件的電力測定領(lǐng)域,尤其涉及液晶和有機電致發(fā)光二極管顯示器(OLED),用于測定和缺陷監(jiān)測的系統(tǒng)以及用于在此系統(tǒng)中處理圖像的技術(shù)。
相關(guān)技術(shù)說明
液晶顯示器面板包含表現(xiàn)電場依賴光調(diào)制特性的液晶。這些液晶顯示器面板常用于各種設(shè)備如從傳真機,手機,平板電腦和筆記本電腦到大屏幕高清電視機等等以顯示圖像和其他信息。有源矩陣液晶面板是復(fù)雜分層結(jié)構(gòu),其由以下幾種功能層組成:偏光膜的一層或多層;薄膜晶體管TFT基底,其包括薄膜晶體管,存儲電容器,像素電極并與濾光片玻璃基底通過布線相互連接,其中,濾光片玻璃基底包括黑色矩陣,濾光片矩陣及透明的公共電極;由聚酰亞胺制成的定向膜;以及實際液晶材料,其包括塑料或玻璃間隔器,以保持合適的液晶顯示屏的盒厚度。
在高度受控的條件下,液晶顯示屏面板在干凈的室內(nèi)環(huán)境中制成以將產(chǎn)量最大化。盡管如此,一些液晶顯示器還可能不得不因為組裝產(chǎn)品的制造缺陷而被丟棄。
為了提高液晶顯示面板的產(chǎn)品合格率,在整個液晶顯示面板制造過程中進行多步檢查和修復(fù)步驟。其中,最關(guān)鍵步驟之一是陣列檢查并在薄膜晶體管陣列制造過程末尾進行電力檢測。
在目前的市場中,存在幾種液晶顯示器制造商可以用的傳統(tǒng)陣列檢查技術(shù),其中,最普遍采用如上所述的利用光電傳感器(調(diào)制器)的液晶顯示電力檢驗,例如,包含在此全面作為參考的美國第4,983,911號專利。商業(yè)上普遍用的此類典型的液晶檢驗設(shè)備是來自位于美國加利福尼亞州圣何塞的奧寶公司即光子動力學(xué)有限公司的陣列檢查器。特別是,上述的陣列檢查器檢測系統(tǒng)采用一種叫“電壓映像”的方法,此方法采用反射的基于液晶的調(diào)制器,其中,此調(diào)制器被構(gòu)造以測量個體薄膜晶體管陣列像素的電壓。在由陣列檢查器進行薄膜晶體管陣檢測時,驅(qū)動電壓模式被用到受驗薄膜晶體管面板,生成的面板像素電壓是通過定位離受檢薄膜晶體管陣列很近(典型為大約50微米)的上述光電調(diào)制器測的,并服從高壓方波電壓模式。例如,用于調(diào)制器的電壓方波模式的幅值是300伏,頻率是60赫茲。電勢是穿過檢測系統(tǒng)的光電調(diào)制器靠帶有驅(qū)動電壓的受檢薄膜晶體管的鄰近像素形成并促使調(diào)制器中的液晶以改變它們的電場從屬空間定向和局部改變它們穿過調(diào)制器的透光率。換句話說,調(diào)制器的透光率成為鄰近陣列像素電壓的代表。為了獲得變化的調(diào)制器透光率,調(diào)制器由光脈沖照亮。具有面板電壓的調(diào)制器反射的光被電壓成像光學(xué)子系統(tǒng)照相機成像,這樣獲得和數(shù)字化成果圖像。所述的光脈沖持續(xù)時間可為1毫秒。美國第7,212,024號專利公開了把原電壓圖像轉(zhuǎn)換成液晶像素圖并運用此圖進行缺陷檢測的示例系統(tǒng)和方法,可查閱全文以引用。
目前基于電壓成像的缺陷檢測方法采用所謂的電壓圖,其為由所述的光電調(diào)制器和電壓成像光學(xué)子系統(tǒng)照相機生成的源圖像的一個縮減采樣版本。縮減采樣通常基于面板液晶像素的大小,位置和幾何圖而進行。成果缺陷檢測的精確度主要受檢測系統(tǒng)光學(xué)校準(zhǔn)的不準(zhǔn)確以及其他錯誤如玻璃旋轉(zhuǎn)錯誤,系統(tǒng)階段漂移等等的影響。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明方法針對在實質(zhì)上消除一個或多個上述的及其他與電子電路如印刷電路板,半導(dǎo)體電路如在晶片上的半導(dǎo)體電路以及特別是液晶顯示器和有機發(fā)光二極管薄膜晶體管陣列的傳統(tǒng)檢測技術(shù)相關(guān)的問題的方法和系統(tǒng)。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面,提供了一種用于識別具有周期性特征的電子電路的缺陷的裝置。本發(fā)明裝置包括:照相機,其用于獲取電子電路圖像;和圖像處理系統(tǒng),其包括處理單元和存儲器。圖像處理系統(tǒng)被構(gòu)造成接收來自照相機的電子電路圖像,通過至少一個電子電路周期性特征的對角線尺寸對接收的電子電路圖像進行對角線轉(zhuǎn)變以生成電子電路的轉(zhuǎn)換圖像,運用電子電路的圖像和轉(zhuǎn)換圖像來識別候選缺陷,利用至少一個在識別出的候選缺陷附近沒有缺陷的選中圖像區(qū)域來計算一個或多個電子電路區(qū)域局部無缺陷參考(金色)圖像,及利用計算的電子電路的金色圖像和包含候選缺陷的電子電路的圖像區(qū)域來確定電子電路中缺陷的存在。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于光子動力公司,未經(jīng)光子動力公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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