技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及壓印裝置、使用該壓印裝置的物品制造方法和壓印方法。

背景技術(shù)

除了常規(guī)的光刻技術(shù)以外，越來(lái)越多的對(duì)于半導(dǎo)體器件或MEMS等的微型化的要求關(guān)注通過(guò)使用壓模（die）（模具）在基板上形成未固化樹(shù)脂并在基板上形成樹(shù)脂圖案的微型化加工技術(shù)。這些技術(shù)被稱(chēng)為壓印（imprint）技術(shù)，并且使得能夠在基板上形成數(shù)納米量級(jí)的微型結(jié)構(gòu)。光固化方法是壓印技術(shù)的一個(gè)例子。使用光固化方法的壓印裝置首先在基板（例如，晶片）上的作為壓印區(qū)域的拍攝區(qū)（shot）上涂敷紫外線固化樹(shù)脂（壓印材料，光固化樹(shù)脂）。然后，通過(guò)使用模具使樹(shù)脂（未固化樹(shù)脂）成形。在用UV放射線進(jìn)行照射以使樹(shù)脂固化之后，通過(guò)脫模來(lái)在基板上形成樹(shù)脂圖案。由于根據(jù)這種類(lèi)型的光固化方法的壓印技術(shù)可以相對(duì)簡(jiǎn)單的方式控制溫度并使得能夠通過(guò)透明的模具檢測(cè)在基板上形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，因此它特別適于制造半導(dǎo)體器件。

當(dāng)通過(guò)使用以上的技術(shù)的壓印裝置執(zhí)行壓印處理時(shí)，以與一般的曝光裝置等相同的方式執(zhí)行模具和基板的對(duì)準(zhǔn)處理，并且，對(duì)準(zhǔn)在拍攝區(qū)上預(yù)先形成的基板側(cè)的圖案和在模具上形成的圖案部分的形狀。用于對(duì)準(zhǔn)處理的方法包括例如逐個(gè)壓模對(duì)準(zhǔn)或全局對(duì)準(zhǔn)。逐個(gè)壓模對(duì)準(zhǔn)的方法對(duì)于基板上的各拍攝區(qū)執(zhí)行在拍攝區(qū)上形成的標(biāo)記的光學(xué)檢測(cè)，并然后對(duì)于原版（模具或曝光裝置中的標(biāo)線片（reticle））與基板之間的位置關(guān)系的偏離執(zhí)行校正。另一方面，全局對(duì)準(zhǔn)方法利用裝置與基板之間的或裝置與原版之間的位置關(guān)系清楚的事實(shí)，并且，基于指標(biāo)（index）校正偏離，該指標(biāo)是通過(guò)執(zhí)行關(guān)于在大量的代表性的拍攝區(qū)（采樣拍攝區(qū)）上形成的標(biāo)記的檢測(cè)結(jié)果的統(tǒng)計(jì)處理獲得的。換句話說(shuō)，全局對(duì)準(zhǔn)方法通過(guò)對(duì)于所有的拍攝區(qū)使用相同的指標(biāo)執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)處理。在常規(guī)的曝光裝置中，從提高產(chǎn)量的觀點(diǎn)，一般使用全局對(duì)準(zhǔn)方法。

在本上下文中，常規(guī)的曝光裝置通過(guò)根據(jù)拍攝區(qū)的形狀（倍率）改變投影光學(xué)系統(tǒng)的縮小倍率或者通過(guò)改變基板臺(tái)架的掃描速度來(lái)校正曝光處理期間的各拍攝區(qū)的形狀的變化所導(dǎo)致的偏離。但是，壓印裝置不包括投影光學(xué)系統(tǒng)，并且，由于基板上的樹(shù)脂與模具之間的直接接觸，因此，不能執(zhí)行這種類(lèi)型的拍攝區(qū)校正（倍率校正）。因此，壓印裝置使用倍率校正機(jī)構(gòu)，該倍率校正機(jī)構(gòu)通過(guò)由于機(jī)械固定或真空吸附等而操作的保持單元（夾具（chunk））來(lái)保持模具，并且，通過(guò)從模具的側(cè)面施加外力或者通過(guò)加熱模具來(lái)執(zhí)行膨脹以由此使模具物理變形。日本專(zhuān)利公開(kāi)No.2007-535121公開(kāi)了壓印系統(tǒng)，該壓印系統(tǒng)被配置為通過(guò)用致動(dòng)器等施加外力而使模具變形，以由此使圖案部分的形狀相對(duì)于基板側(cè)的圖案發(fā)生變形。

但是，由于常規(guī)的壓印裝置如上面描述的那樣通過(guò)使用保持單元執(zhí)行模具的常時(shí)固定保持（fixed?retention），因而，即使當(dāng)為了使圖案部分的形狀變形而如在日本專(zhuān)利公開(kāi)No.2007-535121中公開(kāi)的那樣向模具施加外力時(shí)，模具也抵抗變形。在這點(diǎn)上，當(dāng)為了提高變形效率而在簡(jiǎn)單地暫時(shí)去除模具的固定保持之后施加外力時(shí)，模具的保持位置自身經(jīng)受變化。因此，當(dāng)使用全局對(duì)準(zhǔn)方法作為對(duì)準(zhǔn)處理的方法時(shí)，由于模具在執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)處理之后已偏離這一事實(shí)，因此，關(guān)于對(duì)準(zhǔn)處理測(cè)量的值不再可用于參照。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是鑒于上述的情況提出的，并且其目的是提供對(duì)于高效的模具的形狀校正或?qū)?zhǔn)處理有用的壓印裝置。

本發(fā)明的配置是如下的壓印裝置，該壓印裝置被配置為通過(guò)模具在基板上使未固化的樹(shù)脂成形并使其固化并在基板上形成固化樹(shù)脂的圖案，該壓印裝置包括：保持單元，被配置為通過(guò)使用包含多個(gè)吸附力產(chǎn)生部的吸附單元來(lái)保持模具；吸附力調(diào)整單元，被配置為能夠調(diào)整所述多個(gè)吸附力產(chǎn)生部的吸附力；以及形狀校正單元，被配置為通過(guò)向所述模具施加力來(lái)使所述模具的圖案區(qū)域的形狀與所述基板的基板側(cè)圖案區(qū)域的形狀對(duì)準(zhǔn)，其中，在通過(guò)使用所述形狀校正單元向所述模具施加力的情況下，所述吸附力調(diào)整單元將向所述模具施加吸附的吸附表面的預(yù)定區(qū)域配置為吸附區(qū)域，并且，調(diào)整多個(gè)吸附力產(chǎn)生部的吸附力，使得其它區(qū)域上的吸附力比所述吸附區(qū)域上的吸附力小。

本發(fā)明使得能夠提供對(duì)于模具的形狀校正或?qū)?zhǔn)處理的高效性有用的壓印裝置。

參照附圖閱讀示例性實(shí)施例的以下描述，本發(fā)明的其它特征將變得清晰。

附圖說(shuō)明

圖1示出根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的壓印裝置的配置。

圖2示出模具夾具的另一配置。

圖3示出模具夾具的另一配置。

圖4是示出壓印處理中的操作序列的流程圖。