1.一種液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

對TFT陣列基板進行清潔處理；

對清潔處理后的TFT陣列基板進行陣列測試；

根據(jù)陣列測試處理結(jié)果，對所述TFT陣列基板進行相應(yīng)處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述對TFT陣列基板進行清潔處理的步驟包括：

通過清潔器對所述TFT陣列基板進行水洗；

通過超音波并結(jié)合清潔劑對水洗后的TFT陣列基板進行清潔；

對所述TFT陣列基板進行紫外光照射。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述根據(jù)陣列測試處理結(jié)果，對所述TFT陣列基板進行相應(yīng)處理的步驟包括：

若所述陣列測試處理結(jié)果為所述TFT陣列基板上存在斷線，則修補機對所述TFT陣列基板進行斷線修補；

將修補后的TFT陣列基板送入成盒制程。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述根據(jù)陣列測試處理結(jié)果，對所述TFT陣列基板進行相應(yīng)處理的步驟包括：若所述陣列測試處理結(jié)果為所述TFT陣列基板上不存在斷線，則所述TFT陣列基板被送入成盒制程。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述通過清潔器對所述TFT陣列基板進行水洗包括由一噴水裝置向陣列基板噴水及由毛刷配合所述噴水裝置清潔TFT陣列基板。

6.一種液晶面板的制作裝置，其特征在于，包括：

清潔機構(gòu)，用于對TFT陣列基板進行清潔處理；

陣列測試機，用于對清潔處理后的TFT陣列基板進行陣列測試；

修補機，用于修補TFT陣列基板上的斷線。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶面板的制作裝置，其特征在于，所述清潔機構(gòu)包括：

清潔器，用于對所述陣列基板進行水洗，去除所述陣列基板上的較大微粒；

超音波器，用于結(jié)合清潔劑對水洗后的陣列基板進行清潔，去除所述陣列基板上的較小微粒；

紫外光照射機，用于對所述陣列基板進行紫外光照射，去除所述陣列基板上的有機物。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的液晶面板的制作裝置，其特征在于，所述修補機具體用于當所述陣列測試處理結(jié)果為所述TFT陣列基板上存在斷線時，對所述TFT陣列基板進行斷線修補。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶面板的制作裝置，其特征在于，所述液晶面板的制作裝置進一步包括一成盒裝置，該成盒裝置用于在所述TFT陣列基板上形成配向膜，并將一CF基板與其貼合并在TFT陣列基板與CF基板之間注入液晶。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶面板的制作裝置，其特征在于，所述清潔器包括一用于向陣列基板噴水的噴水裝置和配合所述噴水裝置清潔陣列基板的毛刷。