1.一種襯底處理裝置，包括：

處理室，能夠收容襯底；以及

原料供給系統，使固體原料升華而生成上述襯底處理用的氣體原料，并向上述處理室供給該氣體原料，

上述原料供給系統包括：

固體原料容器，收容上述固體原料；

第1配管，連接于上述固體原料容器與上述處理室之間；以及

第2配管，與上述固體原料容器連接，且上述第2配管具有用于安裝保持補充用的上述固體原料的原料補充容器的安裝部。

2.一種襯底處理裝置，包括：

處理室，能夠收容襯底；

原料供給系統，使固體原料升華而生成上述襯底處理用的氣體原料，并向上述處理室供給該氣體原料；以及

控制部，

上述原料供給系統包括：

固體原料容器，收容上述固體原料；

第1配管，連接于上述固體原料容器與上述處理室之間；

第2配管，與上述固體原料容器連接，且上述第2配管具有用于安裝保持補充用的上述固體原料的原料補充容器的安裝部；

第3配管，連接于上述第2配管與真空排氣機構之間；

第4配管，連接于上述第2配管，用于導入凈化氣體；

第1閥，連接于上述第3配管的中途；以及

第2閥，連接于上述第4配管的中途，

上述控制部是以下的控制機構，即，為了從上述原料補充容器向上述固體原料容器補充上述固體原料而將上述原料補充容器安裝到上述安裝部上時，控制上述真空排氣機構、上述第1閥和上述第2閥，使得在對上述第2配管內進行抽真空之后向上述第2配管內導入上述凈化氣體。

3.根據權利要求1或2所述的襯底處理裝置，

該襯底處理裝置還包括：原料補充容器凈化氣體導入部安裝部，用于安裝向上述原料補充容器導入凈化氣體的上述原料補充容器的凈化氣體導入部；以及原料補充容器凈化氣體排出部安裝部，用于安裝從上述原料補充容器排出凈化氣體的上述原料補充容器的凈化氣體排出部，

上述控制部是如下的控制機構，即，為了從上述原料補充容器向上述固體原料容器補充上述固體原料而在上述安裝部上安裝上述原料補充容器，在上述原料補充容器凈化氣體導入部安裝部上安裝上述原料補充容器的凈化氣體導入部、在上述原料補充容器凈化氣體排出部安裝部上安裝上述原料補充容器的凈化氣體排出部時，控制上述真空排氣機構、上述第1閥和上述第2閥，使得在對上述第2配管內進行抽真空之后向上述第2配管內導入上述凈化氣體，控制上述真空排氣機構、上述第1閥、上述第2閥、上述凈化氣體導入部和上述凈化氣體排出部，使得從上述原料補充容器的凈化氣體導入部向上述原料補充容器導入上述凈化氣體，從上述原料補充容器的凈化氣體排出部排出上述凈化氣體。

4.一種襯底處理裝置，包括：

處理室，能夠收容襯底；以及

原料供給系統，使固體原料升華而生成上述襯底處理用的氣體原料，并向上述處理室供給該氣體原料，

上述原料供給系統包括：

固體原料容器，收容上述固體原料；

第1配管，連接于上述固體原料容器與上述處理室之間；

安裝部，用于將保持補充用的上述固體原料的原料補充容器安裝在上述固體原料容器上；

原料補充容器凈化氣體導入部安裝部，用于安裝向上述原料補充容器導入凈化氣體的上述原料補充容器的凈化氣體導入部；

原料補充容器凈化氣體排出部安裝部，用于安裝從上述原料補充容器排出凈化氣體的上述原料補充容器的凈化氣體排出部；以及

控制機構，為了從上述原料補充容器向上述固體原料容器補充上述固體原料而在上述安裝部上安裝上述原料補充容器，在上述原料補充容器凈化氣體導入部安裝部上安裝上述原料補充容器的凈化氣體導入部、在上述原料補充容器凈化氣體排出部安裝部上安裝上述原料補充容器的凈化氣體排出部時，控制上述凈化氣體導入部和上述凈化氣體排出部，使得從上述原料補充容器的凈化氣體導入部向上述原料補充容器導入上述凈化氣體，從上述原料補充容器的凈化氣體排出部排出上述凈化氣體。