技術領域

本發明涉及對形成抗蝕劑膜并進行曝光處理后的半導體晶片等的基板供給含有有機溶劑的顯影液，進行顯影處理的顯影處理方法和顯影處理裝置。

背景技術

一般來講，在半導體晶片等的生產線中，為了在半導體晶片或LCD基板等的基板的表面形成抗蝕劑的圖案，使用光刻技術。該光刻技術，依次進行對基板的表面涂布抗蝕劑液的抗蝕劑涂布處理；在形成的抗蝕劑膜曝光圖案的曝光處理；和對曝光處理之后的基板供給顯影液的顯影處理等的一系列的處理，能夠在基板的表面形成規定的抗蝕劑圖案。

但是，在顯影處理中，已知有：在曝光處理中曝光的抗蝕劑膜的區域中，選擇性地溶解·除去光照射強度較強的區域，進行圖案形成的正片型系統；和選擇性地溶解·除去光照射強度較弱的區域，進行圖案形成的負片型系統。在該情況下，在負片型系統中，對基板供給含有有機溶劑的顯影液，進行顯影處理。

于是，在負片型系統在中，作為對基板供給含有有機溶劑的顯影液，進行顯影處理的方法之一，已知有一邊對噴出顯影液的噴嘴以固定速度進行掃描一邊將顯影液連續噴至以固定速度旋轉的基板上，而對基板供給顯影液的方法(例如參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開2010-152353號公報

發明內容

發明想要解決的問題

可是，在專利文獻1記載的顯影處理方法中，由于將顯影液從顯影噴嘴連續噴出在以固定速度旋轉的基板上，因此在基板的表面上形成的顯影液的液膜的厚度變厚。當含有有機溶劑的顯影液的液膜變厚時，抗蝕劑膜的溶解和除去速度變慢，因此存在顯影處理的處理時間變長的問題。

本發明是基于上述情況完成的，目的在于，提供一種在使用含有有機溶劑的顯影液的顯影處理中，能夠使處理時間縮短并能夠提高處理能力的顯影處理方法和顯影處理裝置。

用于解決課題的方法

為了解決上述問題，本發明的顯影處理方法，對在表面涂布有抗蝕劑并被曝光后的基板供給含有有機溶劑的顯影液并進行顯影，上述顯影處理方法的特征在于，包括：

液膜形成工序，一邊使上述基板旋轉一邊從顯影液供給噴嘴對上述基板的中心部供給上述顯影液并形成液膜；和

顯影工序，停止從上述顯影液供給噴嘴向上述基板供給上述顯影液，同時以不使上述顯影液的液膜干燥的狀態下一邊使上述基板旋轉，一邊對上述基板上的抗蝕劑膜進行顯影。

在本發明中，在上述液膜形成工序中，以第一轉速使上述基板旋轉，在上述顯影工序中，以比上述第一轉速低且不促進上述顯影液的液膜的干燥的第二轉速使上述基板旋轉，進一步，以比上述第二轉速高的第三轉速使上述基板旋轉，并且從上述顯影液供給噴嘴對上述基板的中心部供給上述顯影液，優選在上述顯影工序中具有將溶解于上述顯影液的抗蝕劑成分沖走的清洗工序。

在該情況下，優選：上述第一轉速為100rpm～1500rpm，上述第二轉速為10rpm～100rpm。

另外，優選：在本發明中，使上述液膜形成工序和上述顯影工序交替重復多次。

在該情況下，優選具有：在從上述顯影液供給噴嘴對上述基板的中心部供給上述顯影液之前，一邊使上述基板旋轉，一邊使上述顯影液供給噴嘴從上述基板的周邊部向中心部移動，并從上述顯影液供給噴嘴將上述顯影液連續地供給至上述基板的工序。

另外，優選：在從上述顯影液供給噴嘴對上述基板的中心部供給上述顯影液之后，一邊使上述基板旋轉一邊使上述顯影液供給噴嘴從上述基板的中心部向周邊部移動，并從上述顯影液供給噴嘴將上述顯影液供給至上述基板的工序，和停止從上述顯影液供給噴嘴向上述基板供給上述顯影液的工序交替重復多次。

在該情況下，上述顯影液供給噴嘴也可以設置多個，在上述液膜形成工序中，也可以從上述多個顯影液供給噴嘴對上述基板的中心部和中心部以外的部位供給上述顯影液，在上述顯影工序中，也可以停止從上述多個的顯影液供給噴嘴向上述基板供給上述顯影液。

優選具有：在從上述顯影液供給噴嘴對上述基板供給上述顯影液之后，一邊使上述基板旋轉，一邊從沖洗液供給噴嘴對上述基板供給沖洗液的工序，和在從上述沖洗液供給噴嘴對上述基板供給上述沖洗液之后，使上述基板旋轉并干燥的工序。