1.一種顯影處理方法，其對在表面被涂布抗蝕劑并被曝光后的基板供給含有有機溶劑的顯影液來進行顯影，該顯影處理方法的特征在于，包括：

液膜形成工序，一邊使所述基板旋轉(zhuǎn)，一邊從顯影液供給噴嘴對所述基板的中心部供給所述顯影液來形成液膜；和

顯影工序，停止從所述顯影液供給噴嘴向所述基板供給所述顯影液，并在不使所述顯影液的液膜干燥的狀態(tài)下一邊使所述基板旋轉(zhuǎn)，一邊將所述基板上的抗蝕劑膜顯影。

2.如權(quán)利要求1所述的顯影處理方法，其特征在于：

在所述液膜形成工序中，以第一轉(zhuǎn)速使所述基板旋轉(zhuǎn)，

在所述顯影工序中，以比所述第一轉(zhuǎn)速更低并且不促進所述顯影液的液膜干燥的第二轉(zhuǎn)速使所述基板旋轉(zhuǎn)，

進一步還包括清洗工序，以比所述第二轉(zhuǎn)速更高的第三轉(zhuǎn)速使所述基板旋轉(zhuǎn)，并從所述顯影液供給噴嘴對所述基板的中心部供給所述顯影液，將在所述顯影工序中溶解于所述顯影液的抗蝕劑成分沖走。

3.如權(quán)利要求2所述的顯影處理方法，其特征在于：

所述第一轉(zhuǎn)速為100rpm～1500rpm，所述第二轉(zhuǎn)速為10rpm～100rpm。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項所述的顯影處理方法，其特征在于：

將所述液膜形成工序和所述顯影工序交替重復(fù)多次。

5.如權(quán)利要求1～4中任一項所述的顯影處理方法，其特征在于，包括：

在從所述顯影液供給噴嘴對所述基板的中心部供給所述顯影液之前，一邊使所述基板旋轉(zhuǎn)，一邊使所述顯影液供給噴嘴從所述基板的周邊部向中心部移動，并從所述顯影液供給噴嘴對所述基板連續(xù)地供給所述顯影液的工序。

6.如權(quán)利要求1～4中任一項所述的顯影處理方法，其特征在于：

使從所述顯影液供給噴嘴對所述基板的中心部供給所述顯影液之后，一邊使所述基板旋轉(zhuǎn)，一邊使所述顯影液供給噴嘴從所述基板的中心部向周邊部移動，并從所述顯影液供給噴嘴對所述基板供給所述顯影液的工序，和停止從所述顯影液供給噴嘴向所述基板供給所述顯影液的工序交替重復(fù)多次。

7.如權(quán)利要求1～6中任一項所述的顯影處理方法，其特征在于：

所述顯影液供給噴嘴設(shè)置有多個，

在所述液膜形成工序中，從所述多個顯影液供給噴嘴對所述基板的中心部和中心部以外的部位供給所述顯影液，

在所述顯影工序中，停止從所述多個顯影液供給噴嘴向所述基板供給所述顯影液。

8.如權(quán)利要求1～7中任一項所述的顯影處理方法，其特征在于，包括：

從所述顯影液供給噴嘴對所述基板供給所述顯影液之后，一邊使所述基板旋轉(zhuǎn)，一邊從沖洗液供給噴嘴對所述基板供給沖洗液的工序；和

從所述沖洗液供給噴嘴對所述基板供給所述沖洗液之后，使所述基板旋轉(zhuǎn)并干燥的工序。

9.一種顯影處理裝置，其對在表面被涂布抗蝕劑并被曝光后的基板供給含有有機溶劑的顯影液來進行顯影，該顯影處理裝置的特征在于，包括：

將所述基板水平地保持的基板保持部；

使所述基板保持部繞鉛垂軸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)；

對被保持在所述基板保持部的基板的表面供給所述顯影液的顯影液供給噴嘴；和

對從所述顯影液供給噴嘴向所述基板的所述顯影液的供給和所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)進行控制的控制部，

所述顯影處理裝置進行如下處理：

液膜形成處理，根據(jù)來自所述控制部的控制信號，一邊使所述基板旋轉(zhuǎn)，一邊從顯影液供給噴嘴對所述基板的中心部供給所述顯影液來形成液膜；和

顯影處理，停止從所述顯影液供給噴嘴向所述基板供給所述顯影液，并且以不使所述顯影液的液膜干燥的狀態(tài)，一邊使所述基板旋轉(zhuǎn)，一邊對所述基板上的抗蝕劑膜進行顯影。

10.如權(quán)利要求9所述的顯影處理裝置，其特征在于：

根據(jù)來自所述控制部的控制信號，在所述液膜形成處理中，使所述基板以第一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，在所述顯影處理中，使所述基板以比所述第一轉(zhuǎn)速更低并且不促進所述顯影液的液膜干燥的第二轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，進一步進行清洗處理，使所述基板以比所述第二轉(zhuǎn)速更高的第三轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，并從所述顯影液供給噴嘴對所述基板的中心部供給所述顯影液，將在所述顯影處理中溶解于所述顯影液的抗蝕劑成分沖走。