[發(fā)明專利]光刻設(shè)備和平臺系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210033005.5 | 申請日: | 2012-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN102707573A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | J-G·C·范德圖恩;馬塞爾·K·M·博根;S·G·克羅伊斯威克;J·P·斯特瑞弗德;馬克·康斯坦丁·約翰內(nèi)斯·拜根;M·J·沃奧爾戴爾冬克 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 吳敬蓮 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光刻 設(shè)備 平臺 系統(tǒng) | ||
1.一種平臺系統(tǒng),包括:
物體臺,構(gòu)造成保持物體;
短行程致動器元件,構(gòu)造成在第一移動范圍上對所述物體臺移位;
長行程致動器元件,構(gòu)造成在第二移動范圍上對所述短行程致動器元件移位,所述第二移動范圍大于所述第一移動范圍,和
氣動補(bǔ)償裝置,包括:
傳感器,布置成測量表示所述平臺系統(tǒng)的元件上的氣動擾動力的量,
致動器,布置成提供補(bǔ)償力,以至少部分地補(bǔ)償所述氣動擾動,和
控制器,布置成響應(yīng)于從傳感器接收的信號來驅(qū)動所述致動器,其中所述傳感器連接至所述控制器的控制器輸入,所述致動器連接至所述控制器的控制器輸出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平臺系統(tǒng),其中所述元件是短行程致動器元件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平臺系統(tǒng),設(shè)置有位置測量系統(tǒng),用于測量所述短行程致動器元件和長行程致動器元件中的一個的位置,其中所述元件是所述位置測量系統(tǒng)的一部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的平臺系統(tǒng),其中所述傳感器包括壓力傳感器。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的平臺系統(tǒng),其中所述壓力傳感器被彈性地安裝至所述長行程致動器元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的平臺系統(tǒng),其中所述傳感器包括加速度計。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的平臺系統(tǒng),其中所述加速度計基本上設(shè)置在所述物體臺的彎曲模式或扭曲模式的腹點(diǎn)位置處。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的平臺系統(tǒng),其中所述控制器包括估計器,所述估計器布置成根據(jù)由所述加速度計測量的加速度確定壓力變化。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的平臺系統(tǒng),其中所述致動器是短行程致動器元件。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一項所述的平臺系統(tǒng),其中所述致動器是聲波傳送器。
11.一種平臺系統(tǒng),包括:
物體臺,構(gòu)造成保持物體;
短行程致動器元件,構(gòu)造成在第一移動范圍上對所述物體臺移位;
長行程致動器元件,構(gòu)造成在第二移動范圍上對所述短行程致動器元件移位,所述第二移動范圍大于所述第一移動范圍,和
連接開口,所述連接開口將在所述長行程致動器元件和短行程致動器元件之間的間隙連接至所述平臺系統(tǒng)的外部環(huán)境,以允許氣體經(jīng)由所述連接開口流入到所述間隙中和從所述間隙流出。
12.一種平臺系統(tǒng),包括:
物體臺,構(gòu)造成保持物體;
短行程致動器元件,構(gòu)造成在第一移動范圍上對所述物體臺移位;
長行程致動器元件,構(gòu)造成在第二移動范圍上對所述短行程致動器元件移位,所述第二移動范圍大于所述第一移動范圍,和
開口,設(shè)置成穿過所述長行程致動器元件,所述開口從在所述短行程致動器元件和長行程致動器元件之間的間隙朝向在所述長行程致動器元件和靜止結(jié)構(gòu)之間的間隙延伸。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的平臺系統(tǒng),其中所述開口由柔性材料封閉,諸如隔膜。
14.一種平臺系統(tǒng),包括:
物體臺,構(gòu)造成保持物體;
短行程致動器元件,構(gòu)造成在第一移動范圍上對所述物體臺移位;
長行程致動器元件,構(gòu)造成在第二移動范圍上對所述短行程致動器元件移位,所述第二移動范圍大于所述第一移動范圍,
其中所述短行程致動器元件包括加強(qiáng)肋,所述加強(qiáng)肋設(shè)置有通孔。
15.一種光刻設(shè)備,包括根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的平臺系統(tǒng)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于ASML荷蘭有限公司,未經(jīng)ASML荷蘭有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/201210033005.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





