1.ITO銀漿激光刻蝕方法，其特征在于：

①、將ITO銀漿工件正面朝上放置在激光刻蝕機(jī)的工作平臺(tái)上并定位；

②、調(diào)整激光刻蝕機(jī)的工作平臺(tái)或激光刻蝕機(jī)激光頭高度，使激光刻蝕機(jī)的激光焦點(diǎn)落在ITO銀漿工件正面平面上；

③、將要刻蝕的ITO圖形和銀漿圖形分別輸入或?qū)爰す饪涛g軟件，并作為兩個(gè)圖層；

④、分別對(duì)ITO圖形圖層和銀漿圖形圖層設(shè)置激光參數(shù)和運(yùn)動(dòng)參數(shù)，ITO圖形圖層的激光功率2W~6W，激光脈沖頻率為30kH_z~110kH_z，激光刻蝕線速度為500mm/s~1500mm/s，刻蝕重復(fù)次數(shù)為1次；銀漿圖形圖層的激光功率2W~6W，激光脈沖頻率為40H_z~80H_z，激光刻蝕線速度為500mm/s~1500mm/s，刻蝕重復(fù)次數(shù)為2次~4次；

⑤、啟動(dòng)激光刻蝕機(jī)，對(duì)ITO銀漿工件的ITO圖形圖層和銀漿圖形圖層進(jìn)行刻蝕。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ITO銀漿激光刻蝕方法，其特征在于：激光刻蝕機(jī)的激光波長(zhǎng)為1064nm、F-θ透鏡組的焦距在150~300mm之間、激光器的額定輸出功率為5W~20W。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ITO銀漿激光刻蝕方法，其特征在于：激光刻蝕機(jī)的工作平臺(tái)為一吸附平臺(tái)，吸附平臺(tái)的內(nèi)部為空腔，上表面 設(shè)置多個(gè)與空腔連通的小孔，吸附平臺(tái)的側(cè)面或下部開(kāi)有與空腔相連通的通孔，其中，至少有一個(gè)通孔與真空裝置或抽風(fēng)裝置連接。