[發(fā)明專利]化學(xué)機(jī)械拋光方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110264347.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-09-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102294649A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-12-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 路新春;王同慶 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B24B37/04 | 分類號(hào): | B24B37/04 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學(xué) 機(jī)械拋光 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路領(lǐng)域,具體而言,涉及一種化學(xué)機(jī)械拋光方法。
背景技術(shù)
在集成電路的制造過(guò)程中,隨著特征尺寸的縮小和金屬互連層數(shù)的增加,對(duì)晶圓表面平整度的要求也越來(lái)越高。目前,化學(xué)機(jī)械拋光是最有效的全局平坦化技術(shù)。化學(xué)機(jī)械拋光是將晶圓由旋轉(zhuǎn)的拋光頭夾持,并將其以一定壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊上,由磨粒和化學(xué)溶液組成的拋光液在晶圓和拋光墊之間流動(dòng),晶圓表面在化學(xué)和機(jī)械的共同作用下實(shí)現(xiàn)平坦化。在已有的化學(xué)機(jī)械拋光方法中,存在拋光墊使用壽命短的缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。
發(fā)明人經(jīng)過(guò)深入研究后發(fā)現(xiàn)了已有的化學(xué)機(jī)械拋光方法中拋光墊使用壽命短的原因:在對(duì)兩片晶圓進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光的間隙、以及在對(duì)化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備進(jìn)行維護(hù)時(shí),拋光墊會(huì)變的干燥。由于干燥的拋光墊的表面是硬的,因此利用干燥的拋光墊進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光不僅會(huì)影響化學(xué)機(jī)械拋光效果,而且大大地降低了拋光墊的使用壽命。
為此,本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種可以大大地延長(zhǎng)拋光墊的使用壽命的化學(xué)機(jī)械拋光方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例提出一種化學(xué)機(jī)械拋光方法,所述化學(xué)機(jī)械拋光方法包括:A)利用拋光頭夾持晶圓以在拋光墊上對(duì)所述晶圓進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光;和B)在所述化學(xué)機(jī)械拋光停止期間向所述拋光墊噴水以對(duì)所述拋光墊保濕。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光方法通過(guò)在所述化學(xué)機(jī)械拋光停止期間向所述拋光墊噴水以便對(duì)所述拋光墊保濕,從而可以在開(kāi)始進(jìn)行所述化學(xué)機(jī)械拋光時(shí),使所述拋光墊處于濕潤(rùn)的狀態(tài),這樣所述拋光墊的表面是柔軟的。換言之,所述化學(xué)機(jī)械拋光始終在濕潤(rùn)的所述拋光墊上進(jìn)行。因此,所述化學(xué)機(jī)械拋光方法不僅可以提高化學(xué)機(jī)械拋光的效果,而且可以大大地延長(zhǎng)所述拋光墊的使用壽命。在利用已有的化學(xué)機(jī)械拋光方法進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光時(shí),拋光墊的使用壽命大約為2000片次。在利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光方法進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光時(shí),拋光墊200的使用壽命可以達(dá)到2500片次。
另外,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光方法可以具有如下附加的技術(shù)特征:
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述水為去離子水,這樣可以避免在所述噴水的過(guò)程中將雜質(zhì)引到所述拋光墊上。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,當(dāng)所述化學(xué)機(jī)械拋光停止的時(shí)間超過(guò)預(yù)定長(zhǎng)的時(shí)間段時(shí)向所述拋光墊噴水。這樣可以在不影響化學(xué)機(jī)械拋光效果、不縮短所述拋光墊的使用壽命的情況下,減少水的使用量,減低生產(chǎn)成本。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述預(yù)定長(zhǎng)的時(shí)間段為至少5分鐘。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,在緊接所述化學(xué)機(jī)械拋光開(kāi)始之前向所述拋光墊噴水。這樣可以使所述拋光墊的含水量達(dá)到最大、并使所述拋光墊的表面最柔軟,從而可以進(jìn)一步提高化學(xué)機(jī)械拋光的效果、進(jìn)一步延長(zhǎng)所述拋光墊的使用壽命。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述噴水連續(xù)地進(jìn)行。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述噴水至少持續(xù)5秒。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,在所述噴水期間所述拋光墊的旋轉(zhuǎn)速度不大于60轉(zhuǎn)/分鐘。這樣不僅可以將所述水均勻地噴到整個(gè)所述拋光墊上,而且可以避免將向所述拋光墊噴射的水折射出去,并且不會(huì)使所述拋光墊上的水離開(kāi)所述拋光墊。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,在所述噴水期間所述水的流量不大于6升/分鐘。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,在所述噴水期間所述水的流量不大于3升/分鐘。
本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
附圖說(shuō)明
本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解,其中:
圖1是利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光方法對(duì)晶圓進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光的示意圖;和
圖2是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的化學(xué)機(jī)械拋光方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例,所述實(shí)施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的,僅用于解釋本發(fā)明,而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué),未經(jīng)清華大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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