1.一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其包括ITO玻璃的待鍍金部分、不鍍金部分，所述待鍍金部分上蝕刻有走線，所述不鍍金部分覆蓋有鍍金保護(hù)膜，其中所述不鍍金部分內(nèi)均布的X/或Y方向感應(yīng)電極通過其對應(yīng)的走線連接外部結(jié)構(gòu)，之后通過化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝對所述每塊觸控玻璃的走線進(jìn)行鍍金，其特征在于：相互連接的所述待鍍金部分的走線面積與其對應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于：擴(kuò)大所述待鍍金部分的單根走線的走線面積，確保所述待鍍金部分的走線面積與其對應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于：將待鍍金部分的走線與其對應(yīng)的連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過1%的待鍍金部分走線與ITO玻璃上其他待鍍金區(qū)域相連，確保相互連接后所述待鍍金部分的走線總面積與其對應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于：加粗所述待鍍金部分的單根走線，確保每根走線的走線面積與其對應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于：延長所述待鍍金部分的單根走線的走線長度，確保每根走線的走線面積與其對應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于：在ITO玻璃的非觸摸屏區(qū)域蝕刻出輔助走線，其走線與其對應(yīng)的不鍍金部分連接單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過1%的所有待鍍金部分的走線與所述輔助走線相連接，相連接的走線、輔助走線的總面積大于其對應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積的1%，待化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝鍍金完成后，切除輔助走線區(qū)域。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于：電容式觸摸屏上蝕刻有環(huán)形接地走線時(shí)，待鍍金部分的走線與其對應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過1%的所有走線均連接其相鄰的所述環(huán)形接地走線，在ITO玻璃的邊界處的非最終觸摸屏區(qū)域蝕刻出邊界輔助走線，位于ITO玻璃邊界蝕刻出的電容式觸摸屏的走線與其對應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過1%的走線連通所述的邊界輔助走線，待化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝鍍金完成后，切割I(lǐng)TO玻璃時(shí)，切斷環(huán)形接地走線與相鄰走線的連接，切除邊界輔助走線區(qū)域。

8.?根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于：延長所述待鍍金部分的單根走線的倒角過渡區(qū)的長度。