本發(fā)明涉及一種增強(qiáng)型多體式光學(xué)設(shè)備及其制造方法。

背景技術(shù)

光學(xué)交織器是用于將兩組密集波分復(fù)用(DWDM)信道(奇信道和偶信道)交織成復(fù)合信號(hào)流的無(wú)源型光纖設(shè)備。例如，光學(xué)交織器可以構(gòu)造成接收兩個(gè)間隔為100GHz的多路信號(hào)，并將它們交織以產(chǎn)生信道間隔為50GHz的更密集的DWDM信號(hào)。光學(xué)交織器還可以通過(guò)使經(jīng)過(guò)交織器的信號(hào)流方向反向而用作去交織器。

光學(xué)交織器已經(jīng)廣泛用于DWDM系統(tǒng)并成為高速率數(shù)據(jù)傳輸光學(xué)網(wǎng)絡(luò)的重要組成模塊。與諸如薄膜濾波器和陣列波導(dǎo)光柵等其它帶通濾波技術(shù)相比，光學(xué)交織器在一些方面易于制造。然而，由于日益增長(zhǎng)的對(duì)越來(lái)越小的光學(xué)交織器的需求，也已經(jīng)有人嘗試減小光學(xué)交織器的內(nèi)部部件的尺寸。然而，隨著內(nèi)部光學(xué)部件尺寸的減小，制造內(nèi)部部件的工藝復(fù)雜度增加而內(nèi)部部件的產(chǎn)率下降。

發(fā)明內(nèi)容

總體上，本發(fā)明的示例性實(shí)施方式涉及增強(qiáng)型多體式光學(xué)設(shè)備。至少一些示例性實(shí)施方式增強(qiáng)了多體式光學(xué)設(shè)備的強(qiáng)度，這使得能夠制造更薄的多體式光學(xué)設(shè)備。此處公開(kāi)的示例性實(shí)施方式還改善了這些更薄的多體式光學(xué)設(shè)備的長(zhǎng)期穩(wěn)定性和可靠性，即使在惡劣的應(yīng)用環(huán)境中也是如此。

在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，用于制造增強(qiáng)型多體式光學(xué)設(shè)備的方法包括如下步驟：首先，利用壓力和熱將支撐板附接于多體式光學(xué)設(shè)備以形成增強(qiáng)型多體式光學(xué)設(shè)備，其中支撐板的熱膨脹系數(shù)(CTE)在多體式光學(xué)設(shè)備的CTE的大約百萬(wàn)分之0.5以內(nèi)；然后，研磨多體式光學(xué)設(shè)備以減小多體式光學(xué)設(shè)備的厚度。

在另一個(gè)示例性實(shí)施方式中，用于制造增強(qiáng)型多體式偏振分束器(PBS)的方法包括如下步驟：首先，向內(nèi)板的各側(cè)施加PBS涂層；接下來(lái)，利用熱和壓力將兩個(gè)板附接到內(nèi)板的各側(cè)；然后，以與附接的板非正交的角度將附接的板切塊；接下來(lái)，將切塊部段的頂部和底部去除以完成具有大致矩形周邊的多體式PBS的形成；然后，利用熱和壓力將支撐板附接于多體式PBS以形成增強(qiáng)型多體式PBS，其中支撐板的CTE在多體式PBS的CTE的大約百萬(wàn)分之0.5以內(nèi)；最后，研磨多體式PBS以減小多體式PBS的厚度。

在又一個(gè)示例性實(shí)施方式中，增強(qiáng)型多體式光學(xué)設(shè)備包括多體式光學(xué)設(shè)備以及以不用環(huán)氧樹(shù)脂的方式附接于多體式光學(xué)設(shè)備的支撐板。多體式光學(xué)設(shè)備的厚度小于或等于大約1.0毫米。支撐板的CTE在多體式光學(xué)設(shè)備的CTE的大約百萬(wàn)分之0.5以內(nèi)。

提供該發(fā)明內(nèi)容部分是為了以簡(jiǎn)化的形式介紹以下將在具體實(shí)施方式中進(jìn)一步描述的思想的精髓。該發(fā)明內(nèi)容部分并非旨在確定要求保護(hù)的主題的關(guān)鍵特征或必要特征，也并非旨在用于輔助判定要求保護(hù)的主題的范圍。

其它特征將在以下的描述中進(jìn)行闡述，并且將部分地從描述中變得明顯，或者將通過(guò)此處的教示的實(shí)踐而被獲知。可以通過(guò)在所附權(quán)利要求中具體指出的方式及結(jié)合而認(rèn)識(shí)并獲知本發(fā)明的特征。從以下描述和所附權(quán)利要求中，本發(fā)明的特征將變得非常明顯，或者可以通過(guò)以下闡釋的本發(fā)明的實(shí)踐而獲知本發(fā)明的特征。

附圖說(shuō)明

為了進(jìn)一步闡明本發(fā)明的某些方面，將結(jié)合附圖中公開(kāi)的本發(fā)明的示例性實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作出更加具體的描述。應(yīng)當(dāng)理解，這些附圖僅僅描述了本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，所以不應(yīng)視為限制本發(fā)明的范圍。以下將通過(guò)使用附圖而更加具體和詳細(xì)地描述和說(shuō)明本發(fā)明的方面，在附圖中：

圖1A是具有示例性偏振光束偏移器(polarization?beam?displacer，PBD)的示例性光學(xué)去交織器的后視立體圖；

圖1B是圖1A的示例性PBD的立體圖；

圖2是制造圖1A和1B的PBD的示例性方法的流程圖；

圖3A至圖3L是圖2的示例性方法的步驟的各種示例性實(shí)施方式的示意圖；

圖4是比較現(xiàn)有技術(shù)的設(shè)備與根據(jù)圖2的示例性方法制造的圖1A和圖1B中的示例性PBD的各種特性的圖表；

圖5是示例性增強(qiáng)型多體式PBS陣列的側(cè)視圖；

圖6是用于制造圖5的增強(qiáng)型多體式PBS陣列的示例性方法的流程圖；

圖7A至圖7J是圖6的示例性方法的步驟的各種示例性實(shí)施方式的示意圖；

具體實(shí)施方式

本發(fā)明的示例性實(shí)施方式涉及增強(qiáng)型光學(xué)設(shè)備。至少一些示例性實(shí)施方式增強(qiáng)了光學(xué)設(shè)備的強(qiáng)度，這使得能夠制造更薄的多體式光學(xué)設(shè)備。此處公開(kāi)的示例性實(shí)施方式還改善了這些更薄的多體式光學(xué)設(shè)備的長(zhǎng)期穩(wěn)定性及可靠性，即使在惡劣的應(yīng)用環(huán)境中也是如此。

現(xiàn)在將結(jié)合附圖來(lái)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的各種方面。應(yīng)當(dāng)理解，附圖是這些示例性實(shí)施方式的概略和示意性表示，而并非限制本發(fā)明，也未必按比例繪制。