[發明專利]增強型多體式光學設備有效
| 申請號: | 201010112234.7 | 申請日: | 2010-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN102147505A | 公開(公告)日: | 2011-08-10 |
| 發明(設計)人: | 陳凡;顧茂豐;蘭發華;張大鵬 | 申請(專利權)人: | 菲尼薩公司 |
| 主分類號: | G02B6/34 | 分類號: | G02B6/34;H04J14/02 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 潘煒;田軍鋒 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 增強 體式 光學 設備 | ||
1.一種用于制造增強型多體式光學設備的方法,所述方法包括以下步驟:
i)利用壓力和熱將支撐板附接于多體式光學設備以形成增強型多體式光學設備,其中,所述支撐板的熱膨脹系數在所述多體式光學設備的熱膨脹系數的大約百萬分之0.5以內;以及
ii)研磨所述多體式光學設備以減小所述多體式光學設備的厚度。
2.如權利要求1所述的方法,還包括以下步驟:
iii)研磨所述支撐板以減小所述支撐板的厚度。
3.如權利要求2所述的方法,其中,所述多體式光學設備是多體式偏振分束器陣列。
4.如權利要求1所述的方法,其中,所述多體式光學設備是多體式偏振分束器。
5.如權利要求4所述的方法,還包括以下步驟:
iii)以第一角度研磨所述支撐板的第一部分;以及
iv)以第二角度研磨所述支撐板的第二部分,
其中步驟iii)和iv)將所述支撐板轉化成回射器并將增強的偏振分束器轉化成偏振光束偏移器。
6.如權利要求4所述的方法,其中,所述支撐板由與所述多體式偏振分束器相同的材料形成。
7.如權利要求4所述的方法,其中,在所述步驟ii)之后,所述多體式偏振分束器的厚度小于或等于大約1.0毫米。
8.如權利要求4所述的方法,其中,在所述步驟iii)之后,所述多體式偏振分束器的厚度小于或等于大約0.3毫米。
9.如權利要求1所述的方法,其中,在所述步驟i)處使用壓力和熱的附接包括:
i.a)拋光所述多體式光學設備的表面;
i.b)拋光所述支撐板的表面;
i.c)將所述多體式光學設備的拋光表面壓靠所述多體式支撐板的拋光表面以形成增強型多體式光學設備;以及
i.d)在爐中以大于或等于大約300攝氏度的溫度烘烤所述增強型多體式光學設備。
10.如權利要求1所述的方法,其中,所述步驟ii)包括使用瀝青拋光板來研磨所述多體式光學設備以減小所述光學設備的厚度。
11.一種用于制造增強型多體式偏振分束器的方法,所述方法包括以下步驟:
i)將偏振分束器涂層施加到內板的各側;
ii)利用熱和壓力將兩個板附接到所述內板的各側;
iii)以與附接的板非正交的角度將附接的板切塊;
iv)將切塊部段的頂部和底部去除以完成具有大致矩形周邊的多體式偏振分束器的形成;
v)利用熱和壓力將支撐板附接于所述多體式偏振分束器以形成增強型多體式偏振分束器,其中,所述支撐板的熱膨脹系數在所述多體式偏振分束器的熱膨脹系數的大約百萬分之0.5以內;
vi)研磨所述多體式偏振分束器以減小所述多體式偏振分束器的厚度。
12.如權利要求11所述的方法,還包括以下步驟:
vii)研磨所述支撐板以減小所述支撐板的厚度。
13.如權利要求12所述的方法,其中,在所述步驟vi)和vii)后,所述增強型多體式偏振分束器的厚度小于或等于大約1.0毫米。
14.如權利要求11所述的方法,還包括以下步驟:
vii)以第一角度研磨所述支撐板的第一部分;
viii)以第二角度研磨所述支撐板的第二部分,
其中步驟iii)和iv)將所述支撐板轉化成回射器并將所述增強型多體式偏振分束器轉化成偏振光束偏移器。
15.如權利要求11所述的方法,其中,在所述步驟v)處利用壓力和熱的附接包括:
v.a)拋光所述多體式偏振分束器的表面;
v.b)拋光所述支撐板的表面;
v.c)將所述多體式偏振分束器的拋光表面壓靠所述支撐板的拋光表面以形成所述增強型多體式偏振分束器;以及
v.d)在爐中以大于或等于大約300攝氏度的溫度烘烤所述增強型多體式偏振分束器。
16.如權利要求11所述的方法,其中,所述步驟vi)包括使用瀝青拋光板來研磨所述多體式偏振分束器以減小所述多體式偏振分束器的厚度。
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