技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種采用化學(xué)氣相沉積法進(jìn)行薄膜蒸鍍時(shí)能夠控制蒸鍍室內(nèi)的源氣體壓力的源氣體供給裝置。更具體地說，涉及一種使特定量的源氣體流入蒸鍍室內(nèi)，從而能夠準(zhǔn)確地控制蒸鍍室內(nèi)的源氣體的壓力或者流量的源氣體供給裝置。

背景技術(shù)

采用化學(xué)氣相沉積法(Chemical?Vapor?Deposition：CVD)的薄膜蒸鍍?cè)诎雽?dǎo)體元件的絕緣層和有源層、液晶顯示元件的透明電極、電致發(fā)光顯示元件的發(fā)光層、保護(hù)層等的各種領(lǐng)域的應(yīng)用中，在技術(shù)上非常重要。

一般地，采用CVD蒸鍍的薄膜的物性很受蒸鍍壓力、蒸鍍溫度、蒸鍍時(shí)間等CVD工藝條件的影響。例如，隨著蒸鍍壓力的變化，蒸鍍薄膜的結(jié)構(gòu)、密度、粘合力、蒸鍍速度等會(huì)發(fā)生變化。

采用CVD的情況，蒸鍍壓力直接受到源氣體供給裝置所提供的源氣體流量(即，源氣體的壓力)的影響，該源氣體供給裝置用于供給所要蒸鍍的薄膜物質(zhì)原料。即，為在CVD中適當(dāng)?shù)乜刂普翦儔毫?，最好必須?zhǔn)確地控制源氣體供給裝置中的源氣體流量。特別是，需要精密而一定地調(diào)節(jié)蒸鍍速度時(shí)，源氣體流量調(diào)節(jié)的重要性更明顯。

圖1是表示現(xiàn)有源氣體供給裝置100的構(gòu)成的示意圖?，F(xiàn)有源氣體供給裝置100由加熱源物質(zhì)120而生成源氣體的源氣體生成部110、加熱器130、載氣供給部140、蒸鍍室150以及多個(gè)閥161～164構(gòu)成。一般地，源物質(zhì)120在常溫下以固體或者液體狀態(tài)存在，因此，為了使源物質(zhì)120氣化，需要將源物質(zhì)120加熱至常溫以上。此時(shí)，加熱器130作為加熱源物質(zhì)120的裝置而使用。

通常，源氣體由于比重大，因此其移動(dòng)性較差。為了使源氣體順利地向蒸鍍室150內(nèi)移動(dòng)，需要利用載氣。根據(jù)情況，通過開閉多個(gè)閥161～164來調(diào)節(jié)源氣體及載氣的流量或者壓力。例如，在不使用載氣的情況下，關(guān)閉閥161、163。

發(fā)明內(nèi)容

技術(shù)問題

但是，這種現(xiàn)有源氣體供給裝置100存在如下問題。首先，隨著源氣體生成部110內(nèi)所殘留的源物質(zhì)120的量的不同，源物質(zhì)120的蒸發(fā)性發(fā)生變化。所以單憑閥162的開閉，難以準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)源氣體的壓力。而且，隨著通過加熱源物質(zhì)120使源物質(zhì)120的蒸發(fā)以及凝結(jié)過程的反復(fù)進(jìn)行，源物質(zhì)120的蒸發(fā)表面積發(fā)生變化，源物質(zhì)120的蒸發(fā)性也發(fā)生變化，所以不能準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)源氣體的壓力。特別是，源物質(zhì)120呈粉末狀的情況下，源物質(zhì)120的表面條件的變化更大，上述問題點(diǎn)變得更嚴(yán)重。

技術(shù)解決方案

本發(fā)明是為了解決如上所述的以往技術(shù)問題而提出的，目的在于，提供一種源氣體供給裝置，其在采用化學(xué)氣相沉積法進(jìn)行薄膜蒸鍍時(shí)，能夠準(zhǔn)確地控制蒸鍍室內(nèi)的源氣體的壓力或者流量。

有益效果

本發(fā)明涉及的源氣體供給裝置在采用化學(xué)氣相沉積法進(jìn)行薄膜蒸鍍時(shí)，與源氣體生成部?jī)?nèi)的源物質(zhì)的狀態(tài)無關(guān)，能夠準(zhǔn)確地控制流入蒸鍍室內(nèi)的源氣體的量，從而具有在蒸鍍室內(nèi)進(jìn)行的蒸鍍工藝中能夠準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)蒸鍍壓力的效果。

附圖說明

圖1是表示現(xiàn)有源氣體供給裝置100的構(gòu)成的示意圖。

圖2是表示本發(fā)明的一實(shí)施例涉及的源氣體供給裝置200的構(gòu)成的示意圖。

圖3至圖6是表示源氣體供給裝置200的源氣體凝結(jié)部240的內(nèi)部構(gòu)成以及動(dòng)作步驟的一實(shí)施例的示意圖。

圖7至圖10是表示源氣體供給裝置200的源氣體凝結(jié)部240的內(nèi)部構(gòu)成以及動(dòng)作步驟的另一實(shí)施例的示意圖。

圖11是表示本發(fā)明的一實(shí)施例涉及的源氣體供給裝置300的構(gòu)成的示意圖。

圖12至圖14是表示源氣體供給裝置300的源氣體凝結(jié)部340的動(dòng)作步驟的一實(shí)施例的示意圖。

圖15是表示源氣體供給裝置300的源氣體凝結(jié)部340的動(dòng)作步驟的另一實(shí)施例的示意圖。

附圖標(biāo)記

200：源氣體供給裝置

210：源氣體生成部

212：源物質(zhì)

214：加熱器

220：載氣供給部

230：流量控制部

240：源氣體凝結(jié)部

241：第一主體部

242：第一溫度調(diào)節(jié)部

243：第二主體部

244：第二溫度調(diào)節(jié)部

245：源氣體凝結(jié)層

250：蒸鍍室

260：旁路部

271：第一閥

272：第二閥

273：第三閥

274：第四閥

275：第五閥

276：第六閥

300：源氣體供給裝置

310：源氣體生成部