[實用新型]化學機械拋光設備的硅片清洗裝置無效
| 申請號: | 200920074667.0 | 申請日: | 2009-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN201543609U | 公開(公告)日: | 2010-08-11 |
| 發明(設計)人: | 斯健全 | 申請(專利權)人: | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號: | B08B1/04 | 分類號: | B08B1/04;B24B29/00;H01L21/302 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人: | 張驥 |
| 地址: | 201206 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 機械拋光 設備 硅片 清洗 裝置 | ||
1.一種化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,包括刷子,其特征在于:還包括刷子支架、刷子旋轉機構、刷子平動機構;
所述刷子設置于刷子支架上,刷子旋轉機構帶動刷子相對于自身旋轉;刷子平動機構連接刷子支架,通過刷子支架的平動實現刷子的平動。
2.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,其特征在于:所述刷子通過電磁套筒設置于刷子支架上,使刷子能夠相對于刷子支架前后動作。
3.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,其特征在于:所述刷子通過皮帶輪設置于刷子支架上,驅動馬達通過皮帶傳動帶動皮帶輪旋轉,使刷子相對于自身旋轉。
4.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,其特征在于:所述刷子支架通過絲桿與刷子支架驅動馬達連接,刷子支架與絲桿之間為螺紋連接,通過刷子支架驅動馬達的正反旋轉來帶動絲桿的轉動,使刷子支架在絲桿上左右移動。
5.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,其特征在于:所述刷子支架、刷子旋轉機構設置于防水罩內。
6.根據權利要求4所述的化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,其特征在于:所述刷子支架、刷子旋轉機構設置于防水罩內,防水罩與絲桿之間為軸承潤滑和/或油封密封。
7.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,其特征在于:所述刷子為扁圓柱體。
8.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,其特征在于:所述刷子為直徑6cm,高度1cm的扁圓柱體。
9.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備的硅片清洗裝置,其特征在于:所述刷子支架設置于豎直放置的硅片的一側。
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