[發明專利]一種硅片表面制絨液及硅片表面制絨的方法無效
| 申請號： | 200910215805.7 | 申請日： | 2009-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN101717946A | 公開（公告）日： | 2010-06-02 |
| 發明（設計）人： | 戈士勇 | 申請（專利權）人： | 江陰市潤瑪電子材料有限公司 |
| 主分類號： | C23G1/32 | 分類號： | C23G1/32 |
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| 地址： | 214423 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 硅片 表面 制絨液 方法 | ||
1.一種硅片表面制絨液，其特征在于，所述制絨液的成分包含有去離子水、氫氧化鉀或氫氧化鈉、碳酸和/或有機酸、非離子表面活性液，其中氫氧化鉀或氫氧化鈉的含量在25％以內，碳酸和/或有機酸的含量在7％以內，非離子表面活性液的含量在2‰以內，其余為去離子水。
2.如權利要求1所述的硅片表面制絨液，其特征在于，所述有機酸為乙酸，所述乙酸的含量為1.5％～7％。
3.如權利要求2所述的硅片表面制絨液，其特征在于，所述表面活性液為烷基酚聚氧乙烯醚系列表面活性液，或為聚氧乙烯-聚氧丙烯共聚物，所述表面活性液的含量為0.5‰～2‰。
4.如權利要求3所述的硅片表面制絨液，其特征在于，所述烷基酚聚氧乙烯醚系列表面活性液，具體是辛基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚。
5.用上述制絨液將硅片表面制絨的方法，其特征在于，所述制絨方法包括如下步驟：
S1：在制絨槽內加入上述制絨液，且將制絨液攪拌均勻；
S2：將硅片擺放在托架內，然后將硅片與托架一起浸泡入制絨槽內；
S3：將制絨液及硅片一起加熱到70-80度，然后保溫15～20分鐘；
S4：將制絨后的托架及硅片由制絨槽中取出，然后進行清洗處理。
6.如權利要求5所述的硅片表面制絨方法，其特征在于，在步驟S2中擺放在托架內硅片的數量為25片。
7.如權利要求5所述硅片表面制絨的方法，其特征在于，所述加熱的方式采用電加熱，或采用蒸汽加熱。
8.如權利要求5所述的硅片表面制絨的方法，其特征在于，所述清洗處理使用去離子純凈水對硅片的表面進行沖洗。
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