[發(fā)明專利]光學(xué)薄膜的制造方法及光學(xué)薄膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910008363.9 | 申請日: | 2009-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN101520576A | 公開(公告)日: | 2009-09-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 山田朋文;下田一弘 | 申請(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337;B05D7/04;B05D3/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 李貴亮 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué)薄膜 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光學(xué)薄膜的制造方法及光學(xué)薄膜,尤其涉及在連續(xù)輸 送的帶狀基體薄膜上涂布固化性涂布液,在加熱風干燥該涂布層之后使該 涂布層固化的光學(xué)薄膜的制造方法及光學(xué)薄膜。
背景技術(shù)
近年來,在液晶顯示裝置中使用的各種光學(xué)薄膜已成為必需構(gòu)件。其 中,為了改善液晶顯示裝置的視角特性,在一對偏振板與液晶單元之間用 作相位差板的相位差薄膜、提高液晶顯示裝置的視野性的防反射薄膜的需 求正在增加。隨著液晶顯示裝置的對比度比或畫面亮度的提高,強烈需要 進一步減少相位差薄膜的不均。另外,隨著清晰(clear)化、顯示畫面的 高精細化,也強烈需要進一步減少防反射薄膜的不均。
作為該不均的發(fā)生原因,主要包括干燥風等引起的涂布膜的干燥不 均,或者,在透明薄膜或固化性涂布液中含有的低分子量化合物發(fā)生氣化 而產(chǎn)生的結(jié)露污染干燥涂布膜的干燥區(qū)或利用光或熱固化涂布膜的固化 區(qū),該結(jié)露通過附著于涂布膜或透明薄膜背面而成為的污染。
作為它們的對策方法,例如在專利文獻1中提出了通過管理與薄膜條 (web)的涂布面接觸的干燥風的風向或風速的紊亂來防止涂布膜的干燥 不均的發(fā)生的方法。接著,例如在專利文獻2中提出了在溶液制膜法中的 薄膜的制造工序中,在干燥區(qū)內(nèi)使薄膜干燥時,防止已氣化的低分子量化 合物引起的干燥區(qū)壁面的污染的方法。
專利文獻1:特開2004-361015號公報
專利文獻2:特開2001-198934號公報
但是,在專利文獻1及2的方法中,在帶狀薄膜上涂布固化性涂布液 之后,在干燥區(qū)使該涂布層干燥,在固化區(qū)使所述已干燥的涂布層固化的 光學(xué)薄膜的制造方法中,不能抑制如上所述的不均。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是鑒于如上所述的課題而提出的,其目的在于提供一種能夠 抑制不均的光學(xué)薄膜的制造方法。
本發(fā)明之1是為了實現(xiàn)所述目的而提供一種光學(xué)薄膜的制造方法,其 是在連續(xù)輸送的帶狀基體薄膜上涂布固化性涂布液,在干燥區(qū)利用加熱風 干燥涂布層,然后在固化區(qū)使該涂布層固化的光學(xué)薄膜的制造方法,其特 征在于,在所述干燥區(qū)與所述固化區(qū)之間隔著間隔設(shè)置中間區(qū),同時將該 中間區(qū)的溫度控制成低于所述干燥區(qū)的溫度和所述固化區(qū)的溫度的任意 一方,而且,利用結(jié)露抑制機構(gòu)防止在所述干燥區(qū)及所述固化區(qū)發(fā)生的已 氣化的低分子量化合物的結(jié)露。
在此,隔著間隔連續(xù)是指相鄰的區(qū)之間隔著具有輸送基體薄膜的開口 的間隔連續(xù)。另外,區(qū)的溫度是指區(qū)內(nèi)的氣氛溫度,低分子量化合物是指 分子量為1000以下的化合物。
如果像過去的技術(shù)那樣,不具有中間區(qū)而將涂布層直接從干燥區(qū)輸送 至固化區(qū),則在干燥區(qū)加熱的基體薄膜及從涂布層氣化的低分子量化合物 有時會在溫度低于干燥區(qū)的固化區(qū)發(fā)生結(jié)露,因結(jié)露析出的析出物附著于 基體薄膜背面及涂布膜面而使其受污染。另外,在固化區(qū)的壁面等結(jié)露而 成的析出物落下并附著于基體薄膜背面及涂布膜面而使其受污染。
與此相對,像本發(fā)明這樣,在干燥區(qū)與固化區(qū)之間設(shè)置中間區(qū),進行 溫度控制,使中間區(qū)的溫度變得低于固化區(qū)的溫度,所以可能在固化區(qū)結(jié) 露的已氣化的低分子量化合物在溫度低于固化區(qū)的中間區(qū)發(fā)生結(jié)露,所以 可以防止在固化區(qū)的結(jié)露。另外,可以利用結(jié)露抑制機構(gòu)防止在中間區(qū)蒸 發(fā)的低分子量化合物發(fā)生結(jié)露。
這樣,可以防止在干燥區(qū)、中間區(qū)、固化區(qū)輸送的基體薄膜背面及涂 布膜面被已氣化的低分子量化合物發(fā)生結(jié)露而成的析出物污染。
另外,如果像過去那樣鄰接干燥區(qū)和固化區(qū),則在鄰接附近,在彼此 的區(qū)噴射的加熱風之間發(fā)生交換,從而發(fā)生干燥不均或固化不均。
本發(fā)明之2是根據(jù)本發(fā)明之1,其特征在于,所述結(jié)露抑制機構(gòu)在將 所述干燥區(qū)的內(nèi)壓表示為P1、將所述中間區(qū)的內(nèi)壓表示為P2、將所述固 化區(qū)的內(nèi)壓表示為P3時,將P2與P1的內(nèi)壓差ΔP21控制成滿足0[Pa]> ΔP21>-10[Pa]的關(guān)系,同時將P3與P2的內(nèi)壓差ΔP32控制成5[Pa]以下。
如果利用本發(fā)明之2,則通過將P2與P1的內(nèi)壓差ΔP21控制成滿足 0[Pa]>ΔP21>-10[Pa]的關(guān)系,同時將P3與P2的內(nèi)壓差ΔP32控制成5[Pa] 以下,發(fā)生從固化區(qū)到中間區(qū)、從中間區(qū)到干燥區(qū)的風的流動,該風為微 風。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





