[發明專利]光學薄膜的制造方法及光學薄膜
| 申請號： | 200910008363.9 | 申請日： | 2009-02-26 |
| 公開（公告）號： | CN101520576A | 公開（公告）日： | 2009-09-02 |
| 發明（設計）人： | 山田朋文;下田一弘 | 申請（專利權）人： | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337;B05D7/04;B05D3/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 李貴亮 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學薄膜 制造 方法 | ||
1.一種光學薄膜的制造方法，其是在被連續輸送的帶狀基體薄膜上 涂布固化性涂布液，在干燥區用加熱風干燥涂布層，然后在固化區使該涂 布層固化的光學薄膜的制造方法，其特征在于，
在所述干燥區與所述固化區之間隔著間隔設置中間區，
并且，將該中間區的溫度控制成低于所述干燥區的溫度和所述固化區 的溫度的任意一方，而且，
控制成所述中間區的內壓低于所述干燥區的內壓，且所述中間區的內 壓低于所述固化區的內壓，
向所述中間區供給新鮮風。
2.一種光學薄膜的制造方法，
其是在被連續輸送的帶狀基體薄膜上涂布固化性涂布液，在干燥區用 加熱風干燥涂布層，然后在固化區使該涂布層固化的光學薄膜的制造方 法，其特征在于，
在所述干燥區與所述固化區之間隔著間隔設置中間區，
并且，將該中間區的溫度控制成低于所述干燥區的溫度和所述固化區 的溫度的任意一方，而且，
控制成所述中間區的內壓低于所述干燥區的內壓，且所述中間區的內 壓低于所述固化區的內壓，將所述中間區中的所述已氣化的分子量在1000 以下的化合物的氣氛濃度控制為1ppb以下。
3.根據權利要求1或2所述的光學薄膜的制造方法，其特征在于，
在將所述干燥區的內壓表示為P1、將所述中間區的內壓表示為P2、 將所述固化區的內壓表示為P3時，將P2與P1的內壓差ΔP21控制為滿 足0Pa＞ΔP21＞-10Pa的關系，同時將P3與P2的內壓差ΔP32控制為0＜ ΔP32≤5Pa。
4.根據權利要求1或2所述的光學薄膜的制造方法，其特征在于，
所述中間區中的吹向所述帶狀薄膜的寬度方向的干燥風成分的風速 為0.7m/秒以下。
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