[發(fā)明專利]熒光猝滅分析中去除猝滅劑吸收影響的校正方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810099357.4 | 申請(qǐng)日: | 2008-04-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101303309A | 公開(公告)日: | 2008-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳向東;楊繼平;高峰;吳本科;袁自鈞;程萍;王銳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 合肥工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/75 | 分類號(hào): | G01N21/75 |
| 代理公司: | 安徽省合肥新安專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 何梅生 |
| 地址: | 230009*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熒光 分析 去除 猝滅劑 吸收 影響 校正 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光譜分析,特別是在熒光猝滅測(cè)試中的光譜分析,即熒光猝滅分析。
背景技術(shù)
在光譜分析中,受到激發(fā)光激發(fā)后能夠產(chǎn)生熒光的物質(zhì)稱為“熒光試劑”,加入到熒光試劑溶液中以后能使原來的熒光減弱的物質(zhì)則稱為“猝滅劑”,通過檢測(cè)加入猝滅劑前、后熒光強(qiáng)度之變化進(jìn)行分析的方法,就稱為“熒光猝滅分析”。利用熒光猝滅分析方法,可以分析某些自身熒光較難檢測(cè)但具有猝滅特性的物質(zhì)的含量,也可以用來分析熒光猝滅過程中兩種物質(zhì)之間(即熒光試劑與猝滅劑之間)的能量轉(zhuǎn)移和電子轉(zhuǎn)移效率。
采用熒光猝滅分析方法時(shí),要求猝滅劑對(duì)所選擇的激發(fā)光不產(chǎn)生吸收——即所選擇的激發(fā)光的波長應(yīng)當(dāng)位于猝滅劑的吸收譜之外,激發(fā)光僅被熒光試劑單獨(dú)吸收,滿足這一條件時(shí),加入猝滅劑前,熒光試劑所產(chǎn)生的熒光譜表示為圖1中的曲線A;加入猝滅劑后,猝滅劑對(duì)熒光試劑所產(chǎn)生的熒光也不應(yīng)當(dāng)產(chǎn)生吸收,被猝滅的熒光光譜表示為圖1中的曲線B。利用曲線A和曲線B即可獲得熒光猝滅率。
但在實(shí)際過程中,常常由于熒光試劑與猝滅劑的吸收譜存在交迭,無法避開猝滅劑的吸收范圍而僅僅對(duì)熒光試劑進(jìn)行單獨(dú)激發(fā)。這種情況下,加入猝滅劑前,只有熒光試劑單獨(dú)對(duì)激發(fā)光進(jìn)行吸收,所產(chǎn)生的熒光譜表示為圖2中的曲線a;而加入猝滅劑后,整個(gè)過程將變得復(fù)雜化,首先,猝滅劑對(duì)激發(fā)光也同時(shí)產(chǎn)生吸收(以下稱為直接吸收),這將削弱熒光試劑對(duì)激發(fā)光的吸收,使得熒光試劑實(shí)際可以發(fā)出的熒光相應(yīng)減少,表示為圖2中的曲線A′,隨后該熒光被猝滅劑所猝滅,猝滅后的熒光表示為圖2中的曲線B′,而猝滅后的熒光會(huì)被猝滅劑再次吸收(以下稱為二次吸收),并導(dǎo)致熒光光譜出現(xiàn)畸變,表示為圖2中的曲線b。通過實(shí)驗(yàn)?zāi)軌驕y(cè)量得到的是加入猝滅劑前的曲線a和加入猝滅劑后的曲線b,但此時(shí)實(shí)際的熒光猝滅率應(yīng)當(dāng)由曲線A′和曲線B′獲得。由于實(shí)驗(yàn)中無法得到代表中間變量的曲線A′和曲線B′,就無法正確地評(píng)估猝滅率,從而嚴(yán)重地制約了熒光猝滅分析方法的應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)所存在的不足之處,提供一種熒光猝滅分析中去除猝滅劑吸收影響的校正方法。利用本發(fā)明所給出的校正方法,可以通過校正曲線a和曲線b來獲得曲線A′和曲線B′,從而克服熒光猝滅分析中猝滅劑吸收作用所產(chǎn)生的影響,使得那些原本因吸收譜存在交迭而不適合采用熒光猝滅法進(jìn)行分析的物質(zhì)現(xiàn)在可以利用熒光猝滅法進(jìn)行分析,擴(kuò)大了熒光猝滅分析的應(yīng)用范圍。
本發(fā)明解決技術(shù)問題采用如下技術(shù)方案:
本發(fā)明熒光猝滅分析中去除猝滅劑吸收影響的校正方法的特點(diǎn)是按如下步驟進(jìn)行;
a、用光譜曲線a校正獲得曲線A′;
所述光譜曲線a為單獨(dú)熒光試劑受激發(fā)光激發(fā)后所產(chǎn)生的熒光的實(shí)際測(cè)量譜,以函數(shù)I1(λ)表征光譜曲線a;以函數(shù)I1′(λ)表征對(duì)熒光試劑與猝滅劑的混合樣品,去除直接吸收影響后熒光試劑實(shí)際可以發(fā)出的未被猝滅的熒光譜曲線A′;
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
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