1.一種掩膜坯料的制造方法，其是包括抗蝕劑涂敷工序的帶有抗蝕膜掩模坯料的制造方法，在所述抗蝕劑涂敷工序中，從具有向一方向延伸的抗蝕液供給口的涂敷噴嘴噴出抗蝕液，同時沿與所述一方向交差的方向使所述涂敷噴嘴及基板的被涂敷面相對移動，在所述被涂敷面上涂敷所述抗蝕液，所述掩膜坯料的制造方法的特征在于，

涂敷后的抗蝕劑的干燥包括從相對于抗蝕劑的涂敷膜表面平行的方向供給清潔氣體，從而使涂敷后的抗蝕劑干燥的工序。

2.如權利要求1所述的掩膜坯料的制造方法，其特征在于，

涂敷后的抗蝕劑的干燥包括：

與抗蝕劑的涂敷膜表面相對地設置整流板，并且

向所述抗蝕劑的涂敷膜表面與所述整流板之間供給清潔氣體而使涂敷后的抗蝕劑干燥的工序。

3.如權利要求1所述的掩膜坯料的制造方法，其特征在于，

對所述抗蝕劑的涂敷膜表面，從涂敷開始側向涂敷結束側供給清潔氣體。

4.如權利要求1所述的掩膜坯料的制造方法，其特征在于，

具有抗蝕劑涂敷工序，在該抗蝕劑涂敷工序中，利用涂敷噴嘴的毛細管現象使蓄存于液槽內的液體狀的抗蝕劑上升，使基板的被涂敷面向下方與所述涂敷噴嘴的上端部接近，使利用所述涂敷噴嘴上升的抗蝕劑經由該涂敷噴嘴的上端部與所述被涂敷面接觸，在抗蝕劑與基板的被涂敷面接觸的狀態下，使液槽及涂敷噴嘴下降至規定的涂敷高度的位置，在該狀態下，使所述涂敷噴嘴及所述被涂敷面相對地移動，在所述被涂敷面上涂敷所述抗蝕劑。

5、一種光掩膜的制造方法，其特征在于，

使用由權利要求1～4中任一項所述的掩膜坯料的制造方法得到的掩膜坯料來制造光掩膜。