1.一種可降解的植入式構造，其包括：

一植入式主體，該主體有至少一個表面；和

在所述至少一個表面上的至少一種腐蝕誘導性特征，在生理環境下，該特征使得至少一部分主體以比缺乏這一特征更快的速率降解。

2.如權利要求1所述的構造，其特征在于，所述植入式主體包括金屬、合金、或其組合。

3.如權利要求2所述的構造，其特征在于，所述金屬、合金或其組合包括以下至少一種：鈷、鎢、鉍、銀、銅、鐵、鋅、鎂、鋯、鈮、銥、銦、鉍、錫、鎳和上述金屬的合金。

4.如權利要求1所述的構造，其特征在于，所述至少一種腐蝕誘導性特征包括：凹坑、小洞、偏心孔、空隙、或上述特征的組合。

5.如權利要求1所述的構造，其特征在于，所述至少一種腐蝕誘導性特征包括：表面不規則性、劃痕、刮痕、條紋、皺褶、隆起、織構化、燒結的多孔性金屬或合金、粗糙化的表面、或上述特征的組合。

6.如權利要求1所述的構造，其特征在于，所述至少一種腐蝕誘導性特征包括：孔、透孔、對穿燒結洞、或上述特征的組合。

7.如權利要求1所述的構造，其特征在于，所述植入式主體包括帶有主體第一主體連接部分的第一表面和帶有第二主體連接部分的第二表面組成，其中，所述第一表面具有腐蝕誘導性特征，呈現的密度能使第一連接部分能以與第二連接部分不同的速率進行降解。

8.如權利要求1所述的構造，其特征在于，所述植入式主體包括支架。

9.一種可降解的植入式構造，其包括：

一植入式主體，所述主體包括

能以第一降解速率進行降解的第一層，其中，所述第一層包括金屬、合金或其組合；和

以與第一降解速率不同的第二降解速率進行降解的第二層，其中，所述第二層包括金屬、合金或其組合；

其中，所述層使得至少一部分構造在生理環境下發生降解。

10.如權利要求9所述的構造，其特征在于，所述第一板和第二板的鈍化狀態不同。

11.如權利要求9所述的構造，其特征在于，所述第一層和第二層的電化學狀態不同。

12.如權利要求9所述的構造，其特征在于，所述降解速率由于層厚度不同而不同。

13.如權利要求9所述的構造，其特征在于，所述植入式主體包括支架。

14.一種可降解的植入式構造，其包括：

一包含金屬、合金或其組合的具有一定降解速率的植入式主體；和

一覆蓋至少一部分植入式主體的層，其中，所述層控制植入式主體的降解速率。

15.如權利要求14所述的裝置，其特征在于，所述層包括鈍化層。

16.如權利要求15所述的裝置，其特征在于，選用所述鈍化板的厚度、化學成分、耐久性和對植入式裝置的覆蓋率等特性中至少一種來調控降解速率。

17.如權利要求16所述的裝置，其特征在于，選用所述鈍化板上抗腐蝕氧化物的量來調控降解速率。

18.如權利要求14所述的裝置，其特征在于，所述層包括陶瓷、聚合物、金屬、合金、治療劑、腐蝕劑、輻射不透劑或其組合。

19.如權利要求18所述的裝置，其特征在于，所述層帶有露出下方植入式主體部分的缺口，其中，所述缺口有助于調控植入式主體的降解速率。

20.如權利要求14所述的構造，其特征在于，所述植入式主體包括支架成。

21.一種可降解的植入式構造，其包括：

一包含金屬、合金或其組合的植入式主體，該主體的至少一部分可按一定速率降解，其中，降解速率可分為至少兩個降解速率不同的階段。

22.如權利要求21所述的構造，其特征在于，所述至少兩個階段中，初始降解速率比后續降解速率慢。

23.如權利要求21所述的構造，其特征在于，所述至少兩個階段中，初始降解速率比后續降解速率快。

24.如權利要求21所述的構造，其特征在于，所述植入式主體包括支架。