技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及利用化學(xué)氣相沉積法形成膜的成膜方法和在成膜中用于進(jìn)行掩蔽的掩模。

背景技術(shù)

化學(xué)氣相沉積法(Chemical?Vapor?Deposition：CVD)是利用化學(xué)反應(yīng)由原料氣體形成膜的成膜方法，在工業(yè)上廣泛地應(yīng)用于從以半導(dǎo)體裝置為首的微細(xì)器件的薄膜的形成到米量級(jí)的物體的涂敷。

近年，化學(xué)氣相沉積法也被用于具有對(duì)角1米以上的大畫面的顯示面板的制造。在日本特開2000-21304號(hào)公報(bào)中記載有，在AC等離子體顯示面板的制造中，利用等離子體CVD形成將電極覆蓋的電介質(zhì)層。如果利用化學(xué)氣相沉積法，則能夠得到薄且厚度均勻的電介質(zhì)層，并且，能夠在比厚膜法低的溫度下形成由介電常數(shù)比作為一般材料的低熔點(diǎn)玻璃小的二氧化硅、有機(jī)氧化硅等物質(zhì)構(gòu)成的電介質(zhì)層。

通常，用于利用化學(xué)氣相沉積法進(jìn)行的成膜的成膜裝置，想辦法使得向成膜面均勻地供給原料物質(zhì)。例如，在日本特開平11-350143號(hào)公報(bào)中記載的平行平板型的等離子體CVD裝置中，在反應(yīng)室的氣體導(dǎo)入口與成膜面之間，配置有有意使厚度不均勻的噴淋板。該噴淋板是向成膜面整體噴出氣體的噴嘴，具有很多微細(xì)的噴出孔。在該噴淋板中，利用孔的氣體流量依賴于孔的長(zhǎng)度，選定噴淋板的各位置的厚度，使得無論是板的中央還是端部，氣體的噴出量都均勻。

另一方面，當(dāng)利用化學(xué)氣相沉積法進(jìn)行成膜時(shí)，在成膜對(duì)象的物體上有不用成膜的部位時(shí)，對(duì)該部位進(jìn)行掩蔽。在作為與掩蔽相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)的日本特開平11-269646號(hào)公報(bào)中，公開了使用具有與成膜對(duì)象相同程度的熱膨脹率的夾具進(jìn)行掩蔽的技術(shù)。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2000-21304號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開平11-350143號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：日本特開平11-269646號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

在利用化學(xué)氣相沉積法在排列有電極的基板上形成電介質(zhì)層的等離子體顯示面板的制造中，當(dāng)為了使電極的端子部露出而在基板上重疊掩模進(jìn)行掩蔽時(shí)，有電介質(zhì)層的厚度變得不均勻的問題。掩模附近比其它部分厚。

電介質(zhì)層的厚度的不均勻，會(huì)引起構(gòu)成畫面的單元間的動(dòng)作特性的偏差。為了進(jìn)行高品質(zhì)的穩(wěn)定的顯示，希望電介質(zhì)層的厚度均勻。

本發(fā)明的目的是，在進(jìn)行掩蔽的成膜中，使膜厚均勻。

實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的的成膜方法，是將物體的表面部分地掩蔽，利用化學(xué)氣相沉積法在表面的露出部分形成膜的方法，在反應(yīng)室內(nèi)成膜時(shí)，利用內(nèi)部具有通氣路并且具有與通氣路和外面相通的通氣孔的掩模，進(jìn)行物體的掩蔽，通過使用掩模內(nèi)的通氣路對(duì)供給至由掩模覆蓋的非成膜面的原料氣體進(jìn)行排氣或稀釋，對(duì)反應(yīng)室內(nèi)的原料物質(zhì)的濃度分布進(jìn)行控制，使得在成膜面內(nèi)成膜速度均勻。

附圖說明

圖1為表示等離子體顯示面板的單元結(jié)構(gòu)的一個(gè)例子的分解立體圖。

圖2為表示顯示電極的圖案的平面圖。

圖3為表示在等離子體顯示面板的制造中形成電介質(zhì)層時(shí)需要掩蔽的區(qū)域的圖。

圖4為在等離子體顯示面板的制造中使用的掩模的平面圖。

圖5為圖4的a-a箭頭方向的剖面圖。

圖6為表示第一實(shí)施方式的成膜裝置的概要的示意圖。

圖7為表示在等離子體顯示面板的制造中使用的掩模的另一個(gè)例子的平面圖。

圖8為表示第二實(shí)施方式的成膜裝置的概要的示意圖。

具體實(shí)施方式

以下，舉等離子體顯示面板的電介質(zhì)層的形成為例，對(duì)本發(fā)明的成膜方法進(jìn)行說明。

[第一實(shí)施方式]

圖1為表示等離子體顯示面板的單元結(jié)構(gòu)的一個(gè)例子的分解立體圖。在圖1中，為了易于弄清內(nèi)部結(jié)構(gòu)，將前面板10和背面板20分開畫。

等離子體顯示面板1由前面板10和背面板20構(gòu)成。前面板10包括玻璃基板11、顯示電極X和Y、電介質(zhì)層17、和保護(hù)膜18。顯示電極X、Y分別是圖案化的透明導(dǎo)電膜41和金屬膜42的疊層體。電介質(zhì)層17和保護(hù)膜18覆蓋顯示電極X、Y。背面板20包括玻璃基板21、尋址電極A、絕緣層24、多個(gè)隔壁29、和熒光體層28R、28G、28B。例示的隔壁29的配置圖案為條紋圖案。圖中的括號(hào)內(nèi)的字母R、G、B表示熒光體的發(fā)光色。