[其他]一種用于還原氧化物料的方法和裝置無效
| 申請號： | 85103258 | 申請日： | 1985-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN85103258A | 公開（公告）日： | 1986-10-22 |
| 發明（設計）人： | 桑頓;馬西森;哈馬爾斯各格 | 申請（專利權）人： | SKF鋼鐵工程公司 |
| 主分類號： | C10J3/16 | 分類號： | C10J3/16;H05H1/02 |
| 代理公司： | 中國專利代理有限公司 | 代理人： | 巫肖南,李雒英 |
| 地址： | 瑞典*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | 本發明涉及還原氧化物料的方法和裝置。在一步氣體發生爐中，利用至少從一臺等離子體發生器的熱能，從含碳或含烴的原料中產生主要含一氧化碳和氫氣的還原氣。經脫硫(任選)和調溫后，產生的還原氣通入裝有氧化物料的還原爐。從還原爐排出的部分消耗過的還原氣，經除水和塵狀顆粒后一部分返回工藝流程，小部分回流氣用來調節系統壓力。一小部分準備在工藝中重新使用的部分消耗的還原氣通過一個CO2洗滌器，然后用來調節最終還原氣中H2/CO的比率。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 還原 氧化 物料 方法 裝置 | ||
【主權項】：
1、一種用于還原氧化物料的方法，包括如下步驟：a)從含碳的或含烴的原料中產生主要含一氧化碳和氫氣的還原氣，其中所說的原料同一種氧化劑和任選的一種造渣劑一起被加入到氣化區或氣化室，而同時至少用一臺等離子體發生器供給熱量。b)使這樣制得的還原氣體達到一個適宜后續還原工藝的溫度。而后，所說的氣體被加入一個容納有待還原氧化物料的豎爐中，所說的氣體以逆流流向所說的待還原的物料；c)從還原氣中基本上除去水和塵狀顆粒，所說的氣體在還原了氧化物料之后就含有了氧化組份，例如二氧化碳、水以及塵狀顆粒，而它的還原能力同時被部份消耗掉，而后，此部分還原氣的主要部份返回到工藝去；d)為了實現總氣流的壓力調節，至少有一小部份所說的準備在工藝中重新使用的部份消耗(還原能力)的氣體從系統中排出。e)為了調節最終還原氣中的H2/CO的比率，至少使一小部份準備在工藝中重新使用的部份消耗(還原能力)氣流通過一個CO2洗滌器。
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