[其他]真空鍍膜采用致冷器的冷卻方法在審
| 申請號： | 101985000000062 | 申請日： | 1985-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN85100062B | 公開（公告）日： | 1987-10-07 |
| 發明（設計）人： | 許知止;李春茂;周炳琨 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 清華大學專利事務所 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 真空鍍膜采用致冷器冷卻方法是用在被鍍工件必須冷卻的真空鍍膜技術中。由于采用致冷器冷卻，和原有的水或液氮冷卻系統相比，具有體積小，結構簡單，操作簡便，裝卸容易，效率高，成本低等優點。它特別適用于易受熱損壞的鍍件的真空鍍膜工藝中。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 真空鍍膜 采用 致冷 冷卻 方法 | ||
【主權項】：
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