[發(fā)明專利]光學(xué)系統(tǒng)、曝光裝置以及物品制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210076491.2 | 申請日： | 2022-01-24 |
| 公開（公告）號： | CN114815514A | 公開（公告）日： | 2022-07-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 由井友樹;羽切正人;木村一貴;西川原朋史;關(guān)美津留;白畑恭平 | 申請（專利權(quán)）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人： | 孫蕾 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué)系統(tǒng) 曝光 裝置 以及 物品 制造 方法 | ||
1.一種光學(xué)系統(tǒng)，包括第1光學(xué)元件和第2光學(xué)元件，其特征在于，
該光學(xué)系統(tǒng)具備：
多個(gè)第1支承部，支承所述第1光學(xué)元件；
多個(gè)第2支承部，支承所述第2光學(xué)元件；
多個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)，分別調(diào)整所述多個(gè)第1支承部的位置；以及
多個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)，分別調(diào)整所述多個(gè)第2支承部的位置，
通過由所述多個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)對所述多個(gè)第1支承部的位置進(jìn)行的調(diào)整，所述第1光學(xué)元件至少關(guān)于第1軸被進(jìn)行調(diào)整，
通過由所述多個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)對所述多個(gè)第2支承部的位置進(jìn)行的調(diào)整，所述第2光學(xué)元件至少關(guān)于與所述第1軸不同的第2軸被進(jìn)行調(diào)整。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，
所述多個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)被配置成：將所述多個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)中的一個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)分配給所述多個(gè)第1支承部中的一個(gè)第1支承部，
所述多個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)被配置成：將所述多個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)中的一個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)分配給所述多個(gè)第2支承部中的一個(gè)第2支承部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，
所述多個(gè)第1支承部各自的位置不被除對該第1支承部分配的第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)之外的機(jī)構(gòu)調(diào)整，
所述多個(gè)第2支承部各自的位置不被除對該第2支承部分配的第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)之外的機(jī)構(gòu)調(diào)整。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，
所述多個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整所述多個(gè)第1支承部的位置的方向與第1方向平行，
所述多個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整所述多個(gè)第2支承部的位置的方向與不同于所述第1方向的第2方向平行。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，
通過由所述多個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)對所述多個(gè)第1支承部的位置進(jìn)行的調(diào)整，所述第1光學(xué)元件關(guān)于包括所述第1軸的3個(gè)軸被進(jìn)行調(diào)整，
通過由所述多個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)對所述多個(gè)第2支承部的位置進(jìn)行的調(diào)整，所述第2光學(xué)元件關(guān)于包括所述第2軸的3個(gè)軸被進(jìn)行調(diào)整。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，
通過由所述多個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)對所述多個(gè)第2支承部的位置進(jìn)行的調(diào)整而能夠調(diào)整所述第2光學(xué)元件的所述3個(gè)軸與通過由所述多個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)對所述多個(gè)第1支承部的位置進(jìn)行的調(diào)整而能夠調(diào)整所述第1光學(xué)元件的所述3個(gè)軸全部不同。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，
所述第1軸和所述第2軸相互正交，
通過由所述多個(gè)第1線性調(diào)整機(jī)構(gòu)對所述多個(gè)第1支承部的位置進(jìn)行的調(diào)整而能夠調(diào)整所述第1光學(xué)元件的所述3個(gè)軸是所述第1軸、繞所述第2軸的旋轉(zhuǎn)、繞與所述第1軸和所述第2軸正交的第3軸的旋轉(zhuǎn)，
通過由所述多個(gè)第2線性調(diào)整機(jī)構(gòu)對所述多個(gè)第2支承部的位置進(jìn)行的調(diào)整而能夠調(diào)整所述第2光學(xué)元件的所述3個(gè)軸是所述第2軸、所述第3軸、繞所述第1軸的旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，
所述第1光學(xué)元件的外形具有從由第1圓弧和第1弦規(guī)定的圖形切去所述第1弦的一端側(cè)的第1部分和所述第1弦的另一端側(cè)的第2部分而得到的形狀，
所述第1光學(xué)元件包括配置于所述第1部分且由所述多個(gè)第1支承部中的一個(gè)第1支承部支承的第1被支承部和配置于所述第2部分且由所述多個(gè)第1支承部中的另一個(gè)第1支承部支承的第2被支承部，
所述第1光學(xué)元件以使所述第1弦成為下側(cè)、使所述第1圓弧成為上側(cè)的方式被所述多個(gè)第1支承部支承。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，
所述第1被支承部在所述第1光學(xué)元件被所述多個(gè)第1支承部支承的狀態(tài)下具有水平的被支承面，
所述第2被支承部在所述第1光學(xué)元件被所述多個(gè)第1支承部支承的狀態(tài)下具有水平的被支承面。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
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