[發明專利]一種高強度天青釉瓷的制備工藝有效
| 申請號: | 202110576724.0 | 申請日: | 2021-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN113185123B | 公開(公告)日: | 2023-09-05 |
| 發明(設計)人: | 李美煌 | 申請(專利權)人: | 安達科(江蘇)陶瓷有限公司 |
| 主分類號: | C03C8/02 | 分類號: | C03C8/02;C03C8/20;C04B33/04;C04B33/13;C04B33/16;C04B33/34;C04B41/86 |
| 代理公司: | 蚌埠幺四零二知識產權代理事務所(普通合伙) 34156 | 代理人: | 尹杰 |
| 地址: | 213000*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 強度 天青 制備 工藝 | ||
1.一種高強度天青釉瓷的制備工藝,其特征在于:所述天青釉瓷包括坯體和天青釉;
所述天青釉由以下重量份的原料組成:白云母15-20份、鋯英石25-30份、德化高嶺土15-22份、煅燒氧化鋅6-12份、方解石6-10份、熔塊3-6份、氧化鈷0.5-1份、氧化鑭1-2份;
熔塊的化學組成具體如下:SiO2?:53.47%、Al2O3?:30.13%、MgO:3.26%、Na2O?:5.67%、K2O?:2.18%、Fe2O3?:0.35%、TiO2?:1.06%、La2O3?:0.21%、CaO:3.67%;
其制備工藝包括以下步驟:
步驟一,按坯體和天青釉原料配方稱重配料,原料分別粉碎、混合、濕法球磨,制得坯漿和釉漿;
步驟二,將步驟一制得的坯漿經過磁選機多次除鐵,至坯漿中的含鐵量低于0.05%;
步驟三,使用步驟二制得的坯漿制成陶瓷坯體,并送入窯爐中在800-850℃下素燒7-8h,得素坯;
步驟四,在素坯表面施步驟一制得的釉漿;
步驟五,待釉漿干燥后,送入窯爐中,在還原氣氛下燒制而成,燒成溫度為1220-1280℃;
所述步驟五中,其燒成控制具體如下:
低溫階段:窯爐內由常溫升至390-450℃,燒窯時間2-3h;
分解氧化階段:窯爐內升溫至880-950℃,燒窯時間3-5小時;
高溫還原階段:窯爐內升溫至1240-1260℃,燒窯時間10-12小時;
高火保溫階段:窯爐內溫度控制在1220-1280℃,燒窯時間4-6小時;
自然冷卻階段:窯爐內冷卻至室溫,冷卻時間延長至8小時以上;
所述步驟五中,高溫還原階段中,一氧化碳的含量為6.8-7.5%,氧氣的含量為1.5-2.4%;
所述步驟五中,高火保溫階段中,一氧化碳的含量為8.2-9.0%,氧氣的含量為0.5-1%;
所述坯體由以下重量份的原料組成:德化長石18-25份、德化高嶺土20-25份、德化石英35-40份、德化葉臘石8-10份、滑石5-8份、紅柱石5-12份;
所述坯體的化學組成具體如下:SiO2?:60.17-63.23%、Al2O3?:16.42-20.05%、MgO:6.91-8.24%、Na2O?:4.26-5.08%、K2O?:3.25-3.95%、Fe2O3?:0.02-0.04%、TiO2?:0.51-0.67%、ZnO:1.69-1.93%、I.L?:1.63-1.95%。
2.根據權利要求1所述的一種高強度天青釉瓷的制備工藝,其特征在于:所述步驟一中釉漿濕法球磨時,原料在球磨機中濕法研磨36-42小時,研磨介質為水,原料:球:水?=1:1.8-2:1.5-1.8。
3.根據權利要求1所述的一種高強度天青釉瓷的制備工藝,其特征在于:所述步驟一中坯漿濕法球磨時,原料在球磨機中濕法研磨24-28小時,研磨介質為水,原料:球:水?=1:1.5-2:1.2-1.5。
4.根據權利要求1所述的一種高強度天青釉瓷的制備工藝,其特征在于:所述釉漿的厚度為0.4-0.6mm。
5.根據權利要求1所述的一種高強度天青釉瓷的制備工藝,其特征在于:所述釉漿的施釉方式為淋釉或浸釉。
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