本發明提供一種蓋板及蓋板鍍膜方法，涉及鍍膜技術領域，蓋板包括透明基材和非導電真空膜；所述透明基材包括相對設置的外表面和內表面；所述非導電真空膜設置在所述外表面上，且所述非導電真空膜的底層為單晶硅層。非導電真空膜設置在透明基材的外表面上，使用者從蓋板外側觀看時，非導電真空膜的顏色效果直接反射至人眼內，而不需要透過透明基材，能夠降低透明基材對非導電真空膜顯示效果的影響，并且由于單晶硅層能夠吸收部分顏色的光線，能夠將通過蓋板內表面透過透明基材的部分顏色的光線吸收，以避免影響非導電真空膜的顯示效果，使非導電真空膜的顯示效果更加透亮，從而提高蓋板對非導電真空膜的顯示效果。

技術領域

本發明涉及鍍膜技術領域，尤其是涉及一種蓋板及蓋板鍍膜方法。

背景技術

玻璃蓋板廣泛應用于手機的后蓋上，現有技術中，玻璃蓋板的內表面上設置帶有顏色的鍍膜層，使用者可通過玻璃蓋板看到鍍膜層的顏色效果。

然而，玻璃能夠吸收部分顏色的光線，使用者通過玻璃蓋板看到的鍍膜效果與鍍膜實際效果有較大差距，導致玻璃蓋板對鍍膜的顯示效果不佳。

發明內容

本發明的目的在于提供一種蓋板，以解決現有技術中的玻璃蓋板對鍍膜的顯示效果不佳的技術問題。

本發明提供的蓋板，包括透明基材和非導電真空膜；

所述透明基材包括相對設置的外表面和內表面；

所述非導電真空膜設置在所述外表面上，且所述非導電真空膜的底層為單晶硅層。

進一步地，所述非導電真空膜的厚度為30－40nm。

進一步地，所述蓋板還包括類金剛石膜和抗指紋膜；

所述類金剛石膜設置在所述非導電真空膜上，所述抗指紋膜設置在所述類金剛石膜上。

進一步地，所述類金剛石膜與所述非導電真空膜之間設有二氧化硅層；所述抗指紋膜與所述類金剛石膜之間設有二氧化硅層。

進一步地，類金剛石膜與非導電真空膜之間的二氧化硅層厚度為10－12nm，抗指紋膜與類金剛石膜之間的二氧化硅層厚度為3－5nm。類金剛石膜的厚度為0.8－1nm，抗指紋膜的厚度為25－30nm。

進一步地，所述透明基材為玻璃、寶石、陶瓷中的任一種。

更進一步地，所述透明基材為蝕刻玻璃。

進一步地，所述抗指紋膜為AF膜。

進一步地，所述蓋板還包括油墨層；所述油墨層設置在所述內表面上。

進一步地，所述非導電真空膜還包括二氧化硅層和五氧化二鈮層；

所述單晶硅層、所述二氧化硅層、所述五氧化二鈮層、所述二氧化硅層和所述五氧化二鈮層依次設置。

其中，單晶硅層、二氧化硅層、五氧化二鈮層、二氧化硅層和五氧化二鈮的厚度分別為15－20nm、25－30nm、25－27nm、25－28nm和8－10nm。

本發明的目的還在于提供一種蓋板鍍膜方法，包括以下步驟：

向透明基材的外表面鍍非導電真空膜，并將導電真空膜的底層鍍為單晶硅層。

進一步地，還包括以下步驟：

向非導電真空膜上依次鍍二氧化硅層和類金剛石膜；向類金剛石膜上依次鍍二氧化硅層和抗指紋膜。

進一步地，向透明基材的內表面噴涂油墨層。