[發(fā)明專利]漸變折射率減反薄膜及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110486153.1 | 申請(qǐng)日： | 2021-04-30 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113278950B | 公開（公告）日： | 2022-02-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 楊金慧;劉輝;薄鐵柱;馬婧;李慶;鄭京明;呂學(xué)良;李開宇;王喬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)建筑材料科學(xué)研究總院有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C16/40 | 分類號(hào)： | C23C16/40;C23C16/455;C23C14/08;C23C14/24;C23C14/54;C23C14/06;C23C16/52;G02B1/115 |
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| 地址： | 100024*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 漸變 折射率 薄膜 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種微光像增強(qiáng)器，包括輸入窗和光電陰極，其特征在于，在輸入窗和光電陰極之間設(shè)有漸變折射率減反薄膜，所述的輸入窗的折射率為1.4-1.5，所述的光電陰極的折射率為3.5-4.5，所述的漸變折射率減反薄膜包括10組減反膜層，在從輸入窗到光電陰極的方向上，第一組減反膜層到第十組減反膜層的折射率依次為1.47-1.48、1.82-1.83、2.05-2.06、2.57-2.58、2.74-2.75、3.17-3.18、3.53、3.68-3.69、3.98-3.99和4.10-4.12；其中，每組減反膜層由一層HfO2折射率限制層和一層TiO2折射率漸變層組成；
在第一組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為0.1-0.2nm，TiO2折射率漸變層的厚度為0.4-0.5nm；
在第二組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為0.1-0.2nm，TiO2折射率漸變層的厚度為1.4-1.5nm；
在第三組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為0.1-0.2nm，TiO2折射率漸變層的厚度為2.4-2.5nm；
在第四組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為0.7-0.8nm，TiO2折射率漸變層的厚度為3.4-3.5nm；
在第五組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為0.7-0.8nm，TiO2折射率漸變層的厚度為4.5-4.6nm；
在第六組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為0.7-0.8nm，TiO2折射率漸變層的厚度為5.5-5.6nm；
在第七組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為0.9-1nm，TiO2折射率漸變層的厚度為7.4-7.5nm；
在第八組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為0.9-1nm，TiO2折射率漸變層的厚度為8.4-8.5nm；
第九組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為1.5-1.6nm，TiO2折射率漸變層的厚度為9.5-9.6nm；
在第十組減反膜層中，HfO2折射率限制層的厚度為1.5-1.6nm，TiO2折射率漸變層的厚度為10.4-10.5nm。
2.一種太陽(yáng)能電池，包括玻璃支撐層和致密層，其特征在于，在玻璃支撐層和致密層之間設(shè)有漸變折射率減反薄膜，所述的玻璃支撐層的折射率為1.4-1.5，所述的致密層的折射率為2.3-2.5，所述的漸變折射率減反薄膜包括4組減反膜層，在從玻璃支撐層到致密層的方向上，第一組減反膜層到第四組減反膜層的折射率依次為1.47-1.49、1.95-1.98、2.14-2.19和2.38-2.42；其中，每組減反膜層由一層Al2O3折射率限制層和一層ZrO2折射率漸變層組成；
在第一組減反膜層中，Al2O3折射率限制層的厚度為2-3nm，ZrO2折射率漸變層的厚度為6-7nm；
在第二組減反膜層中，Al2O3折射率限制層的厚度為2-3nm，ZrO2折射率漸變層的厚度為12-14nm；
在第三組減反膜層中，Al2O3折射率限制層的厚度為2-3nm，ZrO2折射率漸變層的厚度為15-18nm；
在第四組減反膜層中，Al2O3折射率限制層的厚度為2-3nm，ZrO2折射率漸變層的厚度為22-25nm。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
