[發明專利]提高燒結釹鐵硼薄片磁體壓斷力的電鍍層結構及制備方法在審
| 申請號： | 202110200393.0 | 申請日： | 2021-02-23 |
| 公開（公告）號： | CN112837884A | 公開（公告）日： | 2021-05-25 |
| 發明（設計）人： | 郝志平;黃書林;王佳興;張旭輝;張信 | 申請（專利權）人： | 包頭麥戈龍科技有限公司;天津沃爾斯科技有限公司 |
| 主分類號： | H01F7/02 | 分類號： | H01F7/02;H01F41/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 014030 內蒙古自治*** | 國省代碼： | 內蒙古;15 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 提高 燒結 釹鐵硼 薄片 磁體 壓斷力 鍍層 結構 制備 方法 | ||
1.提高磁體壓斷力的電鍍層結構，其特征在于，所述電鍍層結構包括鎳鈷合金鍍層(5)，所述電鍍層以鎳鈷合金鍍層(5)作為外表層,所述鎳鈷合金鍍層(5)厚度為8～9um。
2.根據權利要求1所述的磁鐵壓斷力的電鍍層結構，其特征在于，所述鎳鈷合金鍍層(5)厚度為8.5um。
3.根據權利要求1所述的磁鐵壓斷力的電鍍層結構，其特征在于，所述電鍍層結構還包括
與所述的磁體(1)直接接觸的鋅層(2)，所述鋅層(2)作為底層；
位于所述鋅層(2)上的鎳磷合金層(3)，所述鎳磷合金層(3)做中間轉換層；
位于所述鎳磷合金層(3)上的銅層(4)，所述銅層(4)作為中間層；
所述鎳鈷合金鍍層(5)位于所述的銅層(4)上。
4.根據權利要求3所述的磁鐵壓斷力的電鍍層結構，其特征在于，所述鋅層(2)的厚度為1～3um，所述鎳磷合金層(3)的厚度為2～4um，所述銅層(4)的厚度為3～5um。
5.根據權利要求1所述的磁鐵壓斷力的電鍍層結構，其特征在于，所述電鍍層結構還包括
與所述的磁體(1)直接接觸的鋅層(2)，所述鋅層(2)作為底層；
位于所述鋅層(2)上的鋅鎳合金層(6)，所述鋅鎳合金層(6)做中間轉換層；
位于所述鋅鎳合金層(6)上的銅層(4)，所述銅層(4)作為中間層；
所述鎳鈷合金鍍層(5)位于所述的銅層上(4)。
6.根據權利要求5所述的磁鐵壓斷力的電鍍層結構，其特征在于，所述鋅層(2)的厚度為1～3um，所述鋅鎳合金層(6)的厚度為2～4um，所述銅層(4)的厚度為3～5um。
7.一種提高燒結釹鐵硼薄片磁體壓斷力的電鍍層結構，其特征在于，所述電鍍層結構采用權利要求1所述的電鍍層結構。
8.提高燒結釹鐵硼薄片磁體壓斷力的電鍍層結構的制備方法，其特征在于，主要包括以下步驟：
S1、首先對燒結釹鐵硼薄片磁體(7)進行預處理；
S2、然后在燒結釹鐵硼薄片磁體(7)上電鍍一層鋅層(2)；
S3、采用化學鍍鎳鍍液在鋅層(2)上鍍上一層鎳磷合金層(3)；
S4、在鎳磷合金層(3)上電鍍一層銅層(4)；
S5、在銅層(4)上電鍍一層鎳鈷合金層(5)。
9.根據權利要求8所述的提高燒結釹鐵硼薄片磁體壓斷力的電鍍層結構的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中的預處理包括倒角、除油、酸洗和超聲波水洗。
10.根據權利要求8所述的提高燒結釹鐵硼薄片磁體壓斷力的電鍍層結構的制備方法，其特征在于，所述步驟S2中的電鍍方法采用硫酸鋅系電鍍液進行電鍍，所述步驟S4的電鍍方法為采用焦磷酸銅體系電鍍液進行電鍍；所述步驟S5的電鍍方法為采用含有硫酸鈷的硫酸鎳電鍍液體系進行電鍍。
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