1.一種電子設備外殼納米光學連續鍍膜生產線，其特征在于，包括：

第一鍍膜真空箱，所述第一鍍膜真空箱包括第一鍍膜真空室及第二鍍膜真空室，所述第二鍍膜真空室與所述第一鍍膜真空室相連通；

第一鍍膜機組，所述第一鍍膜機組組配置在所述第一鍍膜真空室內，用以在進入至所述第一鍍膜真空室內的基材上鍍設打底層；

第二鍍膜機組，所述第二鍍膜機組配置在所述第二鍍膜真空室內，用以在所述打底層上鍍設光學增亮層；

第二鍍膜真空箱，所述第二鍍膜真空箱包括第三鍍膜真空室及第四鍍膜真空室，所述第四鍍膜真空室與所述第三鍍膜真空室相連通；

第三鍍膜機組，所述第三鍍膜機組配置在所述第三鍍膜真空室內，用以在所述光學增亮層上鍍設非導電金屬增亮層；

第四鍍膜機組，所述第四鍍膜機組配置在所述第四鍍膜真空室內，用以在所述非導電金屬增亮層上鍍設保護層；

氣氛隔離箱，所述氣氛隔離箱連接在所述第一鍍膜真空箱和第二鍍膜真空箱之間，且所述氣氛隔離箱與所述第一鍍膜真空箱之間具有可啟閉的第一隔離門，所述氣氛隔離箱與所述第二鍍膜真空箱之間具有可啟閉的第二隔離門；

第一真空機組，所述第一真空機組與所述第一鍍膜真空箱相連，用于對所述第一鍍膜真空箱抽真空；

第二真空機組，所述第二真空機組與所述第二鍍膜真空箱及氣氛隔離箱相連，用于對所述第二鍍膜真空箱及氣氛隔離箱抽真空。