[發(fā)明專利]激光回流裝置和激光回流方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011484105.0 | 申請日： | 2020-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN113020738A | 公開（公告）日： | 2021-06-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 小林賢史;金永奭;木村展之;一宮佑希;陳之文 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社迪思科 |
| 主分類號： | B23K1/005 | 分類號： | B23K1/005;B23K101/40 |
| 代理公司： | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人： | 喬婉;于靖帥 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 激光 回流 裝置 方法 | ||
1.一種激光回流裝置，其對包含在一個側(cè)面上配置有凸塊的半導(dǎo)體芯片的被加工物從該半導(dǎo)體芯片的另一個側(cè)面照射激光束而對該被加工物的被照射范圍所包含的該凸塊進行回流，其中，
該激光回流裝置包含空間光調(diào)制單元和成像單元，該空間光調(diào)制單元具有能夠?qū)募す夤庠瓷涑龅募す馐植康卦O(shè)定該被照射范圍內(nèi)的激光功率密度的激光功率密度設(shè)定功能，該成像單元具有將從該激光光源射出的激光束成像在該被加工物上并照射到該被加工物的該被照射范圍的成像功能，
或者，
該激光回流裝置包含空間光調(diào)制單元，該空間光調(diào)制單元具有能夠?qū)募す夤庠瓷涑龅募す馐植康卦O(shè)定該被照射范圍內(nèi)的激光功率密度的激光功率密度設(shè)定功能、以及將該激光束成像在該被加工物上并照射到該被加工物的該被照射范圍的成像功能。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光回流裝置，其中，
該激光回流裝置還包含能夠變更該被加工物上的被照射范圍的位置的被照射范圍變更單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光回流裝置，其中，
該空間光調(diào)制單元將照射到該被照射范圍中的存在該凸塊的凸塊區(qū)域的激光束的激光功率密度設(shè)定得比照射到不存在該凸塊的非凸塊區(qū)域的激光束的激光功率密度高。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光回流裝置，其中，
該激光回流裝置還包含均勻照射單元，該均勻照射單元配設(shè)在該激光光源與該空間光調(diào)制單元之間，使從該激光光源射出的激光束的激光功率密度在該空間光調(diào)制單元的入射面上均勻化。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光回流裝置，其中，
該激光光源由多個光源構(gòu)成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光回流裝置，其中，
該激光回流裝置還包含對被加工物的上表面的溫度進行檢測的溫度檢測器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的激光回流裝置，其中，
該激光回流裝置還包含按壓部件，該按壓部件由使該激光束透過的材質(zhì)構(gòu)成，按壓被加工物的上表面。
8.一種激光回流方法，使用了權(quán)利要求1或2所述的激光回流裝置，其中，
對該被照射范圍內(nèi)的各特定區(qū)域分別設(shè)定所照射的激光束的激光功率密度。
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