[發明專利]基坑監測系統在審
| 申請號： | 202011431972.8 | 申請日： | 2020-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN112554247A | 公開（公告）日： | 2021-03-26 |
| 發明（設計）人： | 喬建文;劉德兵;吳紅兵;段鋒;徐繼光;薛曉宏;張濤;姜子麒;郭建華;彭烜;李建洲;藺龍剛;張秀發 | 申請（專利權）人： | 中鐵二十局集團第六工程有限公司 |
| 主分類號： | E02D33/00 | 分類號： | E02D33/00;E02D17/02;E02D17/04;E02D5/34 |
| 代理公司： | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人： | 張志江 |
| 地址： | 710000 陜西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基坑 監測 系統 | ||
1.一種基坑監測系統，其特征在于，所述基坑具有圍護結構和立柱，所述圍護結構包括鉆孔灌注樁和鋼筋混凝土內支撐；所述基坑監測系統包括：
深層水平位移監測設備，用于監測所述鉆孔灌注樁的深層水平位移；
壓頂水平位移監測設備，用于監測所述鉆孔灌注樁的壓頂水平位移；
壓頂沉降位移監測設備，用于監測所述鉆孔灌注樁的壓頂沉降位移；
立柱沉降位移監測設備，用于監測所述立柱的立柱沉降位移；
支撐軸力監測設備，用于監測所述鋼筋混凝土內支撐的支撐軸力；
建筑物沉降位移監測設備，用于監測所述基坑的周邊建筑物沉降位移；
地面沉降位移監測設備，用于監測所述基坑的周邊地面沉降位移；
水位監測設備，用于監測所述基坑的地下水位。
2.如權利要求1所述的基坑監測系統，其特征在于，
所述深層水平位移監測設備包括斜側管和斜測儀，所述斜側管埋設于所述鉆孔灌注樁中，所述斜側管的埋深與所述鉆孔灌注樁的埋深相應，所述斜測儀用于監測所述斜側管的水平位移。
3.如權利要求1所述的基坑監測系統，其特征在于，
所述壓頂水平位移監測設備包括第一測量元件和第一精密全站儀，所述第一測量元件設置于所述鉆孔灌注樁的頂部，所述第一精密全站儀用于監測所述第一測量元件的水平位移；
所述壓頂沉降位移監測設備包括第二精密全站儀，所述第二精密全站儀用于監測所述第一測量元件的沉降位移。
4.如權利要求1所述的基坑監測系統，其特征在于，
所述立柱沉降位移監測設備包括第二測量元件和第一水準儀，所述第二測量元件設置于所述立柱的頂部，所述第一水準儀用于監測所述第二測量元件的沉降位移。
5.如權利要求1所述的基坑監測系統，其特征在于，
所述支撐軸力監測設備包括頻率讀數儀和鋼筋應力計，所述鋼筋應力計設置于所述鋼筋混凝土內支撐的鋼筋，所述頻率讀數儀用于獲取所述鋼筋應力計的數據。
6.如權利要求1所述的基坑監測系統，其特征在于，
所述建筑物沉降位移監測設備包括第三測量元件和第二水準儀，所述第三測量元件設置于所述周邊建筑物，所述第二水準儀用于監測所述第三測量元件的沉降位移；
所述地面沉降位移監測設備包括第四測量元件和第三水準儀，所述第三測量元件設置于所述周邊地面，所述第三水準儀用于監測所述第四測量元件的沉降位移。
7.如權利要求1所述的基坑監測系統，其特征在于，
所述水位監測設備包括電測水位計和所述觀測孔，所述觀測孔設置于所述基坑的外側，所述電測水位計用于監測所述觀測孔的水位。
8.如權利要求1所述的基坑監測系統，其特征在于，
所述深層水平位移監測設備被配置為當監測到所述深層水平位移累計值大于等于40mm且變形速率大于等于2mm/d時報警；
所述壓頂水平位移監測設備被配置為當監測到所述壓頂水平位移累計值大于等于24mm且變形速率大于等于2mm/d時報警；
所述壓頂沉降位移監測設備被配置為當監測到所述壓頂沉降位移累計值大于等于24mm且變形速率大于等于2mm/d時報警；
所述立柱沉降位移監測設備被配置為當監測到所述立柱沉降位移累計值大于等于24mm且變形速率大于等于0.5mm/d時報警；
所述支撐軸力監測設備被配置為當監測到所述支撐軸力值分別大于等于4480KN、5984KN、5984KN以及6800KN時報警；
所述建筑物沉降位移監測設備被配置為當監測到所述周邊地面沉降位移累計值大于等于24mm且變形速率大于等于2mm/day時報警；
所述地面沉降位移監測設備被配置為當監測到所述周邊建筑物沉降位移累計值大于等于8mm且變形速率大于等于0.5mm/d時報警；
所述水位監測設備被配置為當監測到所述地下水位變形速率大于等于500mm/d時報警。
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