[發(fā)明專利]火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011399488.1 | 申請日： | 2020-12-01 |
| 公開（公告）號： | CN112412661A | 公開（公告）日： | 2021-02-26 |
| 發(fā)明（設計）人： | 陳明亮;鄔二龍;劉昌國;陳泓宇;施浙杭;楊海洋;楊成;趙婷;武小川 | 申請（專利權）人： | 上海空間推進研究所 |
| 主分類號： | F02K9/52 | 分類號： | F02K9/52 |
| 代理公司： | 上海航天局專利中心 31107 | 代理人： | 余岢 |
| 地址： | 201112 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 火箭發(fā)動機 直流 式噴注器 燃燒 分區(qū) 結構 | ||
1.一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，包括直流互擊噴注區(qū)域、直流自擊噴注區(qū)域、直流單孔噴注區(qū)；
所述直流自擊噴注區(qū)域和直流單孔噴注區(qū)域位于過噴注器面中心的同一直線上，將噴注器分隔成若干個直流互擊噴注區(qū)域，所述直流互擊噴注區(qū)域的數(shù)量范圍3～12。
2.如權利要求1所述的一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，同一徑向直線上直流自擊噴注單元的數(shù)量與直流噴注單元的數(shù)量之和，同直流互擊噴注單元的圈數(shù)相等，直流互擊噴注單元的圈數(shù)范圍2-6，自擊噴注單元的數(shù)量范圍0-6，直流噴注單元的數(shù)量0-6。
3.如權利要求2所述的一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，噴注器分隔成6個完全相同的直流互擊噴注區(qū)域。
4.如權利要求3所述的一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，所述直流互擊噴注區(qū)域分為3圈，內(nèi)圈布置24個直流互擊噴注單元，中圈布置42個直流互擊噴注單元，外圈布置90個直流互擊噴注單元。
5.如權利要求4所述的一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，設有6個直流自擊噴注區(qū)域，每個直流自擊噴注區(qū)域包括2個直流自擊噴注單元，分別位于外圈和中圈附近。
6.如權利要求5所述的一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，設有6個直流單孔噴注區(qū)，每個直流單孔噴注區(qū)僅有1個直流噴注單元，位于內(nèi)圈附近。
7.如權利要求6所述的一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，所述直流自擊噴注單元均對稱設計，包括2個氧化劑孔或是2個燃料孔。
8.如權利要求7所述的一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，外圈附近的直流自擊噴注單元包括直流自擊噴注單元孔一和直流自擊噴注單元孔二，所述直流自擊噴注單元孔一和直流自擊噴注單元孔二的孔徑和角度可以不同，孔徑范圍0.2～2mm，角度范圍5°～40°。
9.如權利要求7所述的一種火箭發(fā)動機直流式噴注器燃燒場分區(qū)結構，其特征在于，直流噴注單元為1個直流噴注單元的單孔，為燃料孔，單孔孔徑范圍0.2～2mm，相對噴注器軸線角度范圍5°～40°。
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