1.一連續鍍膜設備，適于為待鍍膜樣品鍍膜，其特征在于，包括：

一放電裝置；

一進料裝置；

一抽真空裝置；

一工作腔體，其中所述工作腔體具有一工作腔；以及

至少一輔助腔體，其中所述輔助腔體能夠形成有一個輔助腔，所述輔助腔用于轉移樣品，其中所述放電裝置用于向所述工作腔體的所述工作腔放電，其中所述進料裝置用于向所述工作腔體的所述工作腔進料，所述工作腔體和所述輔助腔體被真空度可控地連接于所述抽真空裝置，其中每一所述輔助腔體和所述工作腔體之間具有一封閉狀態和一連通狀態并且被可操作地在所述封閉狀態和所述連通狀態之間變換，在所述連通狀態，所述輔助腔體和所述工作腔體之間能夠進行樣品轉移并且保持和外界封閉，在所述封閉狀態，所述輔助腔體和所述工作腔體之間保持獨立，其中在所述封閉狀態，至少一個被放置有該待鍍膜樣品的所述輔助腔體被提前抽真空以為連通于所述工作腔體以轉移該待鍍膜樣品做好準備，至少一個所述輔助腔體被提前抽真空以為連通于所述工作腔體以承接來自于所述工作腔體的樣品做好準備，以使得所述工作腔體在所述封閉狀態和所述連通狀態之間變換時真空度能夠被控制在預設范圍內，從而所述工作腔體能夠連續作業。