[發明專利]一種IBC太陽能電池結構及其制備工藝在審
| 申請號: | 202011011919.2 | 申請日: | 2020-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN111987225A | 公開(公告)日: | 2020-11-24 |
| 發明(設計)人: | 趙保星;魏青竹;倪志春;張樹德;符欣;連維飛 | 申請(專利權)人: | 蘇州騰暉光伏技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/00;H01L51/48 |
| 代理公司: | 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232 | 代理人: | 楊敏 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 ibc 太陽能電池 結構 及其 制備 工藝 | ||
1.一種IBC太陽能電池結構,其特征在于,包括依次層疊設置的減反射層、正面鈍化膜層、p型擴散層、n型單晶硅基底層、背面鈍化膜層、有機異質結層、背面導電保護層、背面電極;
所述n型單晶硅基底層包括正面和背面,所述正面構造為絨面結構;所述正面包括p型擴散層且所述p型擴散層形成有正面p+型發射區;所述背面形成圖形化的有機異質結層,所述有機異質結層包括p型有機異質結層和n型有機異質結層,所述p型有機異質結層和n型有機異質結層中間有形成空間隔離區;所述有機異質結層平整貼附于所述背面鈍化膜層。
2.根據權利要求1所述的IBC太陽能電池結構,其特征在于,所述減反射層為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氟化鎂中一種或多種。
3.根據權利要求1所述的IBC太陽能電池結構,其特征在于,所述正面鈍化膜層包括層疊設置的氧化鋁層和氧化硅層,所述氧化鋁層貼合設置于所述減反射層,所述氧化硅層貼合設置于所述p型擴散層。
4.根據權利要求1所述的IBC太陽能電池結構,其特征在于,所述p型擴散層通過硼擴散或硼離子注入形成。
5.根據權利要求1所述的IBC太陽能電池結構,其特征在于,所述背面導電保護層構造為透明導電TCO保護層,所述TCO選自ZnO、In2O3、Ga2O3、TiO2、ZrO2中的一種或多種混合物。
6.一種IBC太陽能電池結構的制備工藝,其特征在于,所述制備工藝包括以下步驟:
S1、對n型單晶硅片的正面和反面進行制絨,制備出金字塔形狀的絨面結構;
S2、在所述n型單晶硅片的正面進行進行硼擴散形成p層,對n型單晶硅片的正面進行局域摻雜,形成正面pn結發射區;
S3、用酸或減溶液對n型單晶硅片的背面進行刻蝕拋光,去除背面擴散層和側面導電通道;
S5、在氧化爐中對n型單晶硅片進行熱氧化,在正面形成氧化硅層;
S6、在正面沉積鈍化減反射層;
S7、用酸溶液對n型單晶硅片的背面進行清洗;
S8、對背面進行氧化退火,在背面沉積氧化硅鈍化層;
S9、在背面制備p型有機異質結膜層;
S10、在背面制備n型異質結膜層;
S11、退火后在背面沉積TCO導電保護層。
S12、制備空間隔離槽,將背面p型異質結膜層和n型異質結膜層形成空間隔離;
S13、制備背面電極。
7.根據權利要求1所述的IBC太陽能電池的制備工藝,其特征在于,所述步驟S6中鈍化減反射層為氧化鋁與氮化硅疊層。
8.根據權利要求1所述的IBC太陽能電池的制備工藝,其特征在于,所述步驟S7中用酸溶液對n型單晶硅片的背面進行清洗具體包括采用HF對背面表面進行清洗,去除背面氧化硅、繞鍍氧化鋁和氮化硅。
9.根據權利要求1所述的IBC太陽能電池的制備工藝,其特征在于,所述步驟S9中p型有機異質結膜層為通過印刷、噴涂、旋涂或噴墨打印方法形成的PEDOT:PSS材料層;所述步驟S10中n型有機異質結膜層為通過印刷、噴涂、旋涂或噴墨打印形成的PCBM層。
10.根據權利要求1所述的IBC太陽能電池的制備工藝,其特征在于,所述步驟S12中制備空間隔離槽的具體方式為采用激光劃刻、機械劃刻或化學腐蝕形成空間隔離槽。
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