1.一種陣列基板制備方法，其特征在于，包括：

提供襯底；

在所述襯底上形成有源層；

在所述有源層上涂布第一光阻層；

采用光透過半透光光罩對所述第一光阻層進行光刻處理，得到第一光阻圖案；所述半透光光罩包括不透光區域、半透光區域和全透光區域，所述不透光區域的透光率小于所述半透光區域的透光率，所述半透光區域的透光率小于所述全透光區域的透光率；所述有源層包括溝道區和導體區，所述不透光區域與所述溝道區對應，所述半透光區域與所述導體區對應；所述第一光阻圖案包括與所述不透光區域對應的第一光阻區域、以及與所述半透光區域對應的第二光阻區域，所述第一光阻區域的厚度大于所述第二光阻區域的厚度；

對所述有源層和所述第一光阻圖案進行刻蝕，得到第二光阻圖案和有源層圖案；所述第二光阻圖案對應設置于所述溝道區；

在所述有源層圖案以及所述第二光阻圖案上形成源漏極層；

在所述源漏極層上涂布第二光阻層；

采用光透過光罩對所述第二光阻層進行光刻處理，得到第三光阻圖案；所述第三光阻圖案對應所述源漏極層的源漏極圖案；

對所述源漏極層進行刻蝕，得到源漏極層圖案。